GB/T 24577-2009热解吸气相色谱法测定硅片表面的有机污染物.pdf

犐犆犛２９．０４５ 犎 ８０ 中华人 民共和 国国家 标准 ／ — 犌犅犜２４５７７ ２００９ 热解吸气相色谱法测定 硅片表面的有机污染物 犜犲狊狋犿犲狋犺狅犱狊犳狅狉犪狀犪犾狕犻狀 狅狉犪狀犻犮犮狅狀狋犪犿犻狀犪狀狋狊狅狀狊犻犾犻犮狅狀 狔 犵 犵 狑犪犳犲狉狊狌狉犳犪犮犲狊犫 狋犺犲狉犿犪犾犱犲狊狅狉狋犻狅狀 犪狊犮犺狉狅犿犪狋狅狉犪犺 狔 狆 犵 犵 狆狔 ２００９１０３０发布 ２０１００６０１实施 中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局 发 布 中 国 国 家 标 准 化 管 理 委 员 会 ／ — 犌犅犜２４５７７ ２００９ 前 言 　　 　　本标准修改采用 ＳＥＭＩＭＦ１９８２１１０３《热解吸附气相色谱法评估硅片表面有机污染物的方法》。 本标准对 格式进行了相应调整。为了方便比较，在资料性附录 中列出了本标准 ＳＥＭＩＭＦ１９８２１１０３ Ｂ 章条和ＳＥＭＩＭＦ１９８２１１０３章条对照一览表。并对 ＳＥＭＩＭＦ１９８２１１０３条款的修改处用垂直单线标 识在它们所涉及的条款的页边空白处。 本标准与 ＳＥＭＩＭＦ１３８９０７０４相比，主要技术差异如下： ———去掉了“目的”、“关键词”； ———将实际测试得到的单一试验室的精密度结果代替原标准中的精度和偏差部分，并将原标准中 的精度和偏差部分作为资料性附录 。 Ａ 本标准的附录 、附录 为资料性附录。 Ａ Ｂ 本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会提出。 本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会归口。 本标准起草单位：信息产业部专用材料质量监督检验中心、中国电子科技集团公司第四十六研 究所。 本标准主要起草人：王奕、褚连青、李静。 Ⅰ ／ — 犌犅犜２４５７７ ２００９ 热解吸气相色谱法测定 硅片表面的有机污染物 １ 范围 　 １．１ 本标准规定了硅片表面的有机污染物的定性和定量方法，采用气质联用仪或磷选择检测器或者两 　 者同时采用。 本标准描述了热解吸气相色谱仪（ ）以及有关样品制备和分析的相关程序。 １．２ ＴＤＧＣ