文献综述(VN薄膜).docVIP

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文献综述(VN薄膜)

文献综述: 等离子体镀氮化钒材料的研究 1 研究的意义 21[1]。 氮是含钒微合金钢中一种十分有益的合金元素。钢中增氮可以强化钒的析出,改变钒的相间分布,提高钢的持久强度,改善钢的韧性和塑性,同时还提高抗热强度和抗短时蠕变能力。在钒钢中每增加10 ppm的氮,钢的强度就可提高6 MPa[2-4]。研究表明,在钢中添加氮化钒比添加钒铁节约20% ~40%的钒,降低炼钢成本3O一5O元/t。不但可以节约昂贵稀有的金属钒,还可以利用廉价的氮资源[5-6] 目前向钢中渗氮的方法主要有添加富氮锰铁、氰氨化钙、氮化钒铁和吹氮等,这些方法分别存在着昂贵、收率低且不稳定、要先生产钒铁,再固态渗氮,生产成本高、吹氮时需要特殊装置等不足。而利用氮化钒向钢中渗氮,不仅解决了上述问题,还能同时向钢中添加钒,大幅度提高了钢的各种性能[7-10] 2 国内外研究现状 (推板窑法)、承钢(唐钢,微波法)、吉林铁合金厂(真空碳还原法)等,其中攀钢集团走在国内同类企业的前列[12]2007年2月牵头制订了世界上首个《钒氮合金》国家级标准(GB/T20567—2006)。 钒氮合金研发难度大,属冶金行业的顶级尖端技术。目前全世界只有美国VAMETCO公司和攀钢能够生产。攀钢通过科研攻关,首创比国外更先进的“非真空连续生产”技术,填补了中国钒氮合金生产领域的空白[13]。1998年,美国钒公司第一次来中国推销钒氮合金,在攀钢考察时强调指出“二十多年来,德国、俄罗斯、日本对钒氮合金都研究过,都声称自己研制出钒氮合金生产技术,但20多年过去了他们都没能大批量生产。钒氮合金生产里面学问大得很,只有我们才真正能商业化生产。”同时,对攀钢提出的技术合作意愿坚决拒绝并挑战“你们开发出来我买你们的”。经过多年攻关,1996年月,攀钢开始立项《用23制取碳化钒和氮化钒的研究》并通过了“九五”国家科技攻关立项审查,此后,历经数年艰苦卓绝探索,最终取得钒氮合金产业化技术成功。攀钢该项技术的成功不仅突破了美国全球独家垄断,同时工艺技术更为先进,达到国际领先水平,形成自主知识产权的专利技术。攀钢的钒氮合金产业化技术全面超过美国Vametco公司同类技术,主要表现在:一是攀钢能够在非真空而不是Vametco公司必需的高真空环境下生产,设备简单、要求更低、稳定性强、设备投入少;二是攀钢工艺能够连续性生产,降低了能耗和显著提高劳动生产率;三是攀钢工艺中,碳化及氮化反应同步进行,工艺流程简单,运行周期短[14]。20世纪90年代通过多组元薄膜、多层薄膜、复合薄膜更是大大提高了氮化钛薄膜工具的性能,取得了相当大的进展。而目前向氮化钛薄膜中添加铝元素生成TiAlN等[15]多元复合薄膜是目前研究领域中从价格、性能、工艺参数等方面考虑是最优的,目前硬质合金薄膜大已经广泛地用在模具刀具上以及一些高科技领域,如果能再优化其工艺参数可以进一步提硬质材料的生产效率、使用寿命和应用领域。 本课题研究的氮化钒材料就属一种新型薄膜,它是现今新近发展起来的,基本上还在实验室阶段薄膜制备技术很多,但大多停留在实验室制备阶段,还不能放大到工业生产中。未来薄膜制备工艺的发展方向应以降低成本、提高等应用性能为重点。很多发达国家均进行了薄膜的研究,国内外的纳米的需求量越来越大,应抓住机遇,利用中国丰富的资源开发出新工艺。3 氮化钒薄膜制备方法 制备薄膜的方法。在这些制备方法中在某一些方面有着独特的优点,但在另一些方面却存在着难以弥补的缺陷,因此有必要根据需要选择合适的方法。下面根据物理气相沉积[16,17]和化学气相沉积3.1 薄膜的制备方法 物理气相沉积法(PVapor Deposotion)是指用电弧、高频或等离子体等高温热源将原料加热,使之汽化或形成等离子体,然后骤冷使之在基片上沉积来制备薄膜的一种方法。物理气相沉积是制备硬质镀层(硬膜)的常用技术, PVD的沉积温度较低,不易引起基底的变形与开裂以及镀层性能的下降,制得的薄膜均匀,易控制薄膜的结构与性质,是一种工程上已广泛应用的制膜方法,但该法制膜需在真空下进行,所需的设备价格昂贵。 目前常用的PVD方法主要有:电弧离子镀、直流溅射、射频溅射、磁控溅射、活化反应蒸发等电弧离子镀和磁控溅射离子镀是工业生产的主流镀膜技术。电弧离子镀以其离化率高,薄膜生长速度快,薄膜附着强度好一系列优点,占了薄膜市场的很大份额。九十年代中期我国从国外引进的七台大型镀膜机均为电弧离子镀,对我国镀膜工业的进步起到很大推动作用。最近磁控溅射离子镀,由于非平衡磁场耦合,,脉冲溅射,交流溅射电源等新技术的出现,使磁控溅射技术在制备多元素复合膜超晶格薄膜[]和纳米晶超硬薄膜方面超过了电弧离子镀方法。先进的磁控溅射技术为沉积薄膜提供了技术保证,完善的镀膜设备功能是保证超硬薄膜材料质量的

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