X光光电子能谱仪-国家试验研究院.DOC

財團法人國家實驗研究院 國家奈米元件實驗室 採購 招標規範書 目錄 頁次 壹、目的 3 貳、設備明細 3 參、規格審查文件 7 肆、履約期限 7 伍、設備驗收標準 7 陸、保固 9 柒、教育訓練 10 捌、其他 10 本規範適用於財團法人國家實驗研究院國家奈米元件實驗室此次採購之設備明細整體需求規格建議如下：(數量：1台) 設備部份： 1-1、1-1.1 X光光束可變範圍為15μm～100μm，最小直徑須≦15μm。 1-1.2 X-ray靶材須具有可動式功能的鋁(Al)鍍膜靶材，以增加靶材使用壽命。 1-2、電子能量分析器： 1-2.1 須為球扇形能量分析器(Spherical sector analyzer, SSA)，以提升分析時的能量解析度。 1-2.2電子能量分析須為multi-channels，且至少含64 Energy channels以上的偵測器(detector)。 1-2.3 以銀(Ag)為標準樣品進行系統測試，量測特定能峰(Ag 3d5/2)解析度需達到0.5 eV或更佳。 1-2.4 以PET為標準樣品進行系統測試，量測特定能峰(C1s)解析度需達到0.85 eV或更佳。 1-3、可分析功能： 1-3.1系統可進行單點及多點能譜分析、薄膜化學組成、區域XPS成像分析、線分析、縱深分析、峰值標定和辨識等。 1-3.2 能以ARXPS（Non-tilting）進行非破壞性的單層及多層薄膜化學組成與厚度鑑定分析。 1-4、真空系統： 1-4.1樣品分析室(Sample analysis chamber)材質須為鐵鎳合金(NiFe Alloy)或u-metal，其最高真空度(Ultimate vacuum)須≦10-9mbar。 1-4.2 機台須備有離子偵測器(Ion gauge)，安裝於樣品分析室、離子槍處(以偵測Ion Gun之氣體流量)及Entry lock區域。 1-4.3 樣品分析室須加裝渦輪分子真空幫浦及鈦昇華幫浦或離子幫浦。 1-4.4 Entry lock、樣品分析室、 離子槍須各自加裝至少250L/s 渦輪分子真空幫浦，以達高抽氣效率 1-5、樣品台： 1-5.1 樣品座(Sample holder)配合樣品台(Sample Stage)須具備5軸數位化控制，可調式X軸、Y軸、Z軸、旋轉及傾斜。 1-5.2 須加附可多點分析之樣品座(Sample holder)。 1-5.3 樣品座尺寸至少須達到60 mm x 60 mm，樣品高度可達20 mm。 1-5.4當進行單點及多點離子濺蝕(sputtering)分析時，可自動更換樣品座，且須能進行360度連續旋轉，以利平整地蝕刻試片表面。 1-6、電荷補償： 能以低能電子和離子進行雙射源(Dual beam)負電荷補償，且由電腦系統控制電子束及離子源自行設定相關參數進行電荷補償。 1-7、離子槍： 離子槍能量範圍為100 eV～5000 eV，且其最小離子束spot size須≦200μm。 1-8、樣品觀察定位系統： 1-8.1 須配備顯微鏡以供樣品分析室作影像定位、樣品表面監視及樣品表面數位化標定，且顯微鏡的焦聚視野可≦200μm，其最佳解析度須達15μm。 1-8.2 具有定位系統及程式記憶功能，可進行多點自動分析。 操作介面及軟體部份： 2-1、控制平台： 2-1.1 須具備合法之Microsoft Windows XP專業版、Microsoft Office 2007或更新版