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pn结 半导体物理_第的七

第七章 PN 结 本章学习要点: 1. 了解PN结的结构及空间电荷区的概念; 2. 掌握零偏状态下PN结的特性,包括内建电势、内 建电场以及空间电荷区宽度等; 3. 掌握反偏状态下PN结的空间电荷区宽度、内建电 场以及PN结电容特性; 4. 了解非均匀掺杂PN结的特性;; §7.1 PN结的基本结构 1. PN结的基本结构 PN结是由一个N型掺杂区和一个P型掺杂区紧密接触所构成的,其接触界面称为冶金结界面。;2. 制造PN结的方法: (1)外延方法:突变PN结; (2)扩散方法:缓变PN结; (3)离子注入方法:介于突变结与缓变结之间; 为简单起见,首先讨论突变结。;理想突变结: P型区和N型区分别均匀掺杂 ?? P型区掺杂浓度为Na ?? N型区掺杂浓度为Nd 冶金结是面积足够大的平面 ;3. PN结空间电荷区的形成 两种材料接触形成PN结时,冶金结两侧将出现载流子密度差,形成可动载流子的扩散流: ?? * 电子离开N型区向P型区扩散,在N型区留下带正电荷的施主离子。 ?? * 空穴离开P型区向N型区扩散,在P型区留下带负电荷的受主离子。; 离化的杂质中心固定不动,出现净正、负电荷,该区域即为空间电荷区。 ;空间电荷区及内建电场的形成过程示意图;平衡PN结的特点:;达到平衡状态的PN结能带图具有统一的费米能级 ; §7.2 零偏状态下的PN结 零偏状态:V外=0 1. 内建电势差 由PN结空间电荷区的形成过程可知,在达到平衡状态时,PN结空间电荷区中形成了一个内建电场,该电场在空间电荷区中的积分就形成了一个内建电势差。 从能量的角度来看,在N型区和P型区之间建立了一个内建势垒,阻止电子进一步向P型区扩散,该内建势垒的高度即为内建电势差,用Vbi 表示。;Evaluation only. Created with Aspose.Slides for .NET 3.5 Client Profile 5.2.0.0. Copyright 2004-2011 Aspose Pty Ltd.;Evaluation only. Created with Aspose.Slides for .NET 3.5 Client Profile 5.2.0.0. Copyright 2004-2011 Aspose Pty Ltd.;Evaluation only. Created with Aspose.Slides for .NET 3.5 Client Profile 5.2.0.0. Copyright 2004-2011 Aspose Pty Ltd.;Evaluation only. Created with Aspose.Slides for .NET 3.5 Client Profile 5.2.0.0. Copyright 2004-2011 Aspose Pty Ltd.;内建势垒的高度:;2、电场强度 耗尽区电场的产生是由于正负电荷的相互分离。右图所示为突变结的体电荷密度分布。;Evaluation only. Created with Aspose.Slides for .NET 3.5 Client Profile 5.2.0.0. Copyright 2004-2011 Aspose Pty Ltd.;结论: 1)E≤0 ; 2)电场强度为直线分布 3)电场强度最大值在x=0处;;Evaluation only. Created with Aspose.Slides for .NET 3.5 Client Profile 5.2.0.0. Copyright 2004-2011 Aspose Pty Ltd.;;Evaluation only. Created with Aspose.Slides for .NET 3.5 Client Profile 5.2.0.0. Copyright 2004-2011 Aspose Pty Ltd.;最大电场强度 由PN结界面处电场连续可得:;内建电势: 将内建电场对空间电荷区进行积分,即可求得空间电荷区中的电势分布。在P型区一侧有:;设置电势零点为:;Evaluation only. Created with Aspose.Slides for .NET 3.5 Client Profile 5.2.0.0. Copyright 2004-2011 Aspose Pty Ltd.;Evaluation only. Created with Aspose.Slides for .NET

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