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聚乙二醇类表活性剂对硅表面无电沉积Ag膜光滑作用研究
第 9 卷 第 1 期 电化学 V o l. 9 N o. 1
2003 年 2 月 EL ECTROCH EM ISTR Y Feb. 2003
文章编号:(2003)
聚乙二醇类表面活性剂对硅表面
无电沉积A g 膜光滑作用研究
佟 浩, 乔志清, 景粉宁, 李梦柯, 王春明
(兰州大学化学化工学院, 甘肃 兰州 730000)
摘要: 应用原子力显微镜技术及开路电位～ 时间谱技术, 研究了非离子表面活性剂聚乙二醇
( ) ( )
2000, 6000, 20000 对硅 100 表面无电沉积银膜的光滑作用. 实验表明硅 100 表面无电沉积银的
光滑程度以及镀层的质量均随聚乙二醇聚合度的增加而变好.
( )
关键词: 无电沉积银; 硅 100 ; 聚乙二醇; 开路电位～ 时间谱技术; 原子力显微镜
中图分类号: 647. 2 文献标识码:
O A
无电沉积(electro less depo sition) 技术是在单晶硅片表面构建亚微米级金属薄膜[ 1 ] 的主要
方法. 无电沉积只要将预表面处理的硅片浸入无电沉积溶液或将溶液喷淋于硅片上, 便能形成
金属膜. 操作简便, 成本较低. 当在硅片上制备能用于制造大规模或超大规模集成电路板的金
( )
属膜时, 由于金属膜的厚度要求控制在亚微米级 一般为 0. 15～ 0. 25 m 以内, 为此必须配制
合适的无电镀浴以防镀膜出现针孔和窝洞. 一般的处理是在镀液配方中使用添加剂以期达到
( ) [ 2, 3 ]
镀层光滑、平整无孔. 通常所采用的光滑剂 添加剂 大多是各类表面活性剂 , 但大多文献对
此都严格保密[ 4～ 6 ] , 且就表面活性剂所起的光滑作用亦缺乏系统性研究. 本文应用原子力显微
( )
镜和开路电位～ 时间谱技术研究了非离子表面活性剂聚乙二醇 2000, 6000, 20000 对硅 100
( )
表面无电沉积银的光滑作用. 实验表明硅 100 表面无电沉积的光滑程度及其镀层质量均随聚
乙二醇聚合度的增加而变好.
1 实验部分
1. 1 仪器
( )
CH I660 电化学工作站 美国 , 电解池由聚四氟乙烯材料加工而成, 体积 40 mL , 工作电
( )
极为自制硅片 100 , 镶嵌于电解池底部小圆孔中, 电极面用固定硅片的O 型橡胶圈定型为圆
2 (
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