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2017-11-02 发布于上海
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pzt厚膜的电射流沉积研究 research on electrohydrodynamic jet deposition of pzt thick films.pdf

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pzt厚膜的电射流沉积研究 research on electrohydrodynamic jet deposition of pzt thick films

２０１６年第３５卷第２期传感器与微系统（Transducer and Microsystem Technologies） 19 ＤＯI：１０.１３８７３／ J.１０００９７８７（２０１６）０２００１９０４ — — — PZ 厚膜的电射流沉积研究 1 1 2 1 1 1 王大志，吕景明，郁风，董维杰，梁军生，任同群（1.大连理工大学辽宁省微纳米技术及系统重点实验室，辽宁大连116024； 2.辽宁出入境检验检疫局，辽宁大连116001）摘要：制备了锆钛酸铅（PZT）悬浮液，采用电射流沉积（EJD）技术，在硅衬底上沉积了PZT厚膜。研究了电射流沉积高度、流量及悬浮液混合条件对厚膜致密性的影响。结果表明：降低电射流沉积高度和流量有助于提高沉积PZT厚膜致密性；采用球磨方法充分混合PZT悬浮液，沉积的PZT厚膜致密性明显提高。采用优化的电射流沉积参数和球磨２０ h 的PZT悬浮液，制备了１０ μm无裂纹PZT厚膜，其压电常数d 为３３－１６７ pC ·N ，相对介电常数为２５５。 ε r 关键词：锆钛酸铅；厚膜；电射流沉积中图分类号：TM２８２文献标识码：A 文章编号：１０００９７８７（２０１６）０２００１９０４ — — — Ｒｅｓｅａｒｃｈｏｎｅlｅｃｔｒｏｈｙdｒｏdｙｎａmｉｃjｅｔ dｅｐｏｓｉｔｉｏｎｏｆ PZ ｔｈｉｃk ｆｉlmｓ １１２１１１ WANG Da zhi ，LÜJing ming ，YU Feng ，DONG Weijie ，LlANGJun sheng ，REN Tong qun （1.Kｅｙ LａbｏｒａｔｏｒｙｆｏｒＭｉｃｒｏ／Ｎａｎｏｅｃｈｎｏlｏｇｙａｎd Ｓｙｓｔｅm，Lｉａｏｎｉｎｇ Pｒｏｖｉｎｃｅ，Ｄａlｉａｎ Uｎｉｖｅｒｓｉｔｙｏｆｅｃｈｎｏlｏｇｙ，Ｄａlｉａｎ 116024，Ｃｈｉｎａ； 2.LｉａｏｎｉｎｇＥｎｔｒｙ-ＥXｉｔ Iｎｓｐｅｃｔｉｏｎａｎd Qｕａｒａｎｔｉｎｅ Bｕｒｅａｕ，Ｄａlｉａｎ 116001，Ｃｈｉｎａ）Ａbｓｔｒａｃｔ：