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黄光工艺介绍
黄光工艺介绍
Profile of Photo process
Profile of Photo process
2012-12-29
1、黄光制程定义-核心技术及名称的来源
1、黄光制程定义-核心技术及名称的来源
黄光工艺使用的技术
黄光使用的技术为微影 (Lithography) 技术，使用的材料为感光材料，这
种材料称之为光阻（PR,photo resistance)。PR具有独特的特性，在UV光的作
用下，会发生化学变化，变成易容与酸或者碱的新物质。
微影 (Lithography) 技术是将光罩 (Mask) 上的图案先转移至PR上，再以
溶剂浸泡将PR受光照射到的部份加以溶解或保留，形成和光罩完全相同或呈互
补的光阻图。
黄光制程名称的来源
由于微影制程的环境照明光源是黄光，而非一般摄影暗房的红光，所以这
一制程常被简称为“黄光”制程。
黄光制程线路精准度水平高，被广泛应用在电容式触摸屏sensor的加工。
2 、黄光制程的曝光原理—正负光阻
2 、黄光制程的曝光原理—正负光阻
UV光源
曝光前
Mask光罩
PR 光阻
ITO film
Mask光罩
曝光后 PR 光阻
ITO film
未被mask遮挡的PR曝 未被mask遮挡的PR曝
光后变成不溶于碱的物 光后变成溶于碱的物
质，形成负性光阻图案 质，形成正性光阻图案
3、黄光制程的流程
3、黄光制程的流程
ITO 基材退火
1 基材 ITO缩水
PR 光阻 批附光阻 压干膜
2 ITO
基材
UV光源 UV通过光罩上的图案，照射到
3 光罩图案 光阻膜上去，制出光阻图案
（PR被UV照射后，发生化学变 曝 光
PR 光阻
ITO film 化，但是物理形态没有变化，所
基材 以生成的光阻图案肉眼不可见）
光阻图案 碱性溶液中，在光阻膜上形成与 显 影
4 ITO film 光罩图案相同或者互补的光阻图
基材 案
光阻图案
5 ITO 图案 酸性溶液中，未被光阻图案遮 蚀 刻
基材 挡住的ITO被溶解，形成ITO图
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