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电池片制造工艺习题1doc
填空题
1、目前光伏企业太阳电池材料是 硅 。
2、化学清洗中HCl的作用 去除硅片表面的金属杂质。HF:去除硅片表面氧化层,以确保表面干净无杂质吸附。
3、光伏公司一般生产的单晶硅片是N型还是P型硅? P型,(N型作掺杂)。
4、制绒的目的是 形成金字塔结构 、 减少光的反射率 、 提高短路电流Isc 、 提高光电转换效率 。
5、制绒工艺化学反应方程式是 Si+2NaOH+H2O=Na2Sio3+H2↑(单晶硅); 多晶硅:Si+HNO3+HF=H2+[siF6] +NO2↑+H2O 。
6、去PSG工艺化学总方程式是 SiO2+6HF=H2[SiF6]+H2O 。
7、硅片在切割的过程中所造成的损伤层约 10um 。
8、制绒工艺的主要控制点是 NaOH的浓度 、 异丙醇浓度(IPA) 、
制绒槽内硅酸钠的累积量 、制绒腐蚀温度 、制绒腐蚀的时间长短、槽体密封程度 、异丙醇的挥发程度 。
9、单晶制绒是利用晶体硅的 100 、 111 不同晶向在 碱性腐蚀中,进行各向异性(多晶在酸性腐蚀中进行各向异性) 腐蚀的特性。
10、扩散过程中应用气体 O2 、 小N2 、 大N2 。
11、扩散在电池片上主要目的是形成一层 N型 。
12、进入扩散间必须经过 风淋门 ,穿戴好工作服 、工作鞋 、 手套 和 防尘口罩、。
13、同一炉硅片扩散方块电阻不均匀度 小于20 ,同一硅片扩散方块电阻不均匀度 ≦10 。
14、检测方块电阻用到 四探针测试 仪器,测试时扩散面向 电池表面 。
15、清洗石英器件所需要的化学品 HF 、 HCL ,清洗时应戴好 防护面罩、双层PE手套、围裙 、防护套 。
16、POCl3在高温下(>600℃)分解的反应式为 5POCL3=P2O5+3PCL2 ,其中生产的P2O5在扩散温度下与硅的反应式为 2P2O5+5Si=5SiO2+4P ,在有氧气存在时,POCl3热分解的反应式为 4POCL3+3O2=2P2O5+6CL2 。
17、PECVD的中文名称是 等离子体增强型化学气相沉积法 。
18、PECVD镀膜方式有直接法 (管式 、板式)、 间接法(微波、直流)两种。
19、镀减反射膜需要用到 NH3 、 N2 、 PF 、 SiH4 4种气体。
20、镀膜是以 厚度 、折射率 两个参数为工艺依据,影响镀膜质量的有:管内特气流量比 、 、 、 。
21、PECVD用 椭偏仪 仪器来检测其质量的好坏。
22、丝网印刷的压缩空气压强要求 ,真空压强要求 。
23、丝网印刷有 5 大要素组成,分别是 浆料. 丝网. 基片.工作台.刮刀 。
24、丝网印刷添加浆料必须遵守和 的烧结 。
25、烧结炉的作用是 烘干硅片的浆料,去除浆料中含有机成分,完成铝背场和 的烧结
。
26、烧结炉的流程有 、 、 、
。
27、烧结炉的关机步骤需要注意的是 关闭干燥加热开关.烧结加热开关 才可以停止传送带。
28、测试条件要求光强 1000w/㎡SiF4+2HF→H2[SiF6]
B、CF4+SiO2→SiF4+CO2↑
C、CF4+SiO2+O2→SiF4+CO2↑
D、SiO2+4HF→SiF4+2H2O
5、单晶绒面呈( B )形。
A、三角形 B、金字塔形 C、圆形 D、正方行
6、扩散洁净度要求是( C )。
A、10万级 B、100万级 C、1万级 D、1000万级
7、电阻测试( C )个点。
A、4 B、3 C、5 D、6
8、硅片扩散工艺结束后应抽取( B )片来检查。
A、5 B、6 C、3 D、4
9、POCl3
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