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Si纳米线的气-液-固生长与结构表征.pdf

V01.29 第29卷第6期 河北大学学报(自然科学版) No.6 ofHebei ScienceEdition) 2009年11月 Journal University(Natural Nov.2009 Si纳米线的气一液一固生长与结构表征 白振华,范志东,程 旭,彭英才 (河北大学电子信息工程学院,河北保定071002) 摘 nm、长度 上制备出了Si纳米线.利用扫描电子显微镜对样品进行了结构表征,Si纳米线的直径为20~200 为数微米到数十微米,X射线能量损失谱分析表明所制备的Si纳米线中含有少量的Au元素.讨论了生长温 度、SiH;流量、Au膜层厚度和生长时间对Si纳米线的形成与结构的影响. 关键词:Si纳米线;Au催化;气一液一固生长;结构表征 383 中图分类号:TB 文献标识码:A GrowthofSilicon via Nanowires Mechanism Vapor-Liquid—Solid andIts.StructuralCharacteristics BAI Zhen—hua,FAN Xu,PENG Zhi-dong,CHENGYing-cai and ofElectronicInformational 071002,China) (College Engineering,HebeiUniversity,Baoding nanowireswere on 1 Aufilmas and Abstract:Silicon synthesizedn—Si(11)substratesusing catalyst Si reactantbased asa on mechanism.Themeasurementof e— 114gas vaporphase vapor-liquid—solid scanning leetron showsthattheir from nm their diameters 20,一200 and arefrom microscopy mainlyrange lengths severalmicrometerstodozensofmicrometers.Theismeasuredwith composition energy-dispersiveX-ray effectsofthe flow ofAufilmand spectrometry.Thegrowthtemperature,Sill4rate,thickness

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