溅射功率对碳化硼薄膜组分与力学性能的影响-强激光与粒子束.PDF

第 卷第 期 强 激 光 与 粒 子 束 ， ２５ ９ Ｖｏｌ．２５ Ｎｏ．９ 　 　 年 月 ， ２０１３ ９ ＨＩＧＨ ＰＯＷＥＲＬＡＳＥＲＡＮＤＰＡＲＴＩＣＬＥＢＥＡＭＳ Ｓｅ． ２０１３ 　 ｐ 　 文章编号： （ ） １００１４３２２２０１３０９２３１７０７ 　 溅射功率对碳化硼薄膜组分与力学性能的影响 ， １２ １ １ １ ２ 张 玲 ， 何智兵 ， 李 俊 ， 许 华 ， 谌家军 　 　 　 　 　 　 　 （ 中国工程物理研究院 激光聚变研究中心，四川 绵阳 ； 西华师范大学 物理与电子信息学院，四川 南充 ） １． ６２１９００ ２． ６３７００２ 　 摘 要： 采用射频磁控溅射技术，在不同溅射功率条件下制备了碳化硼薄膜，并用 射线光电子能谱 Ｘ 　　 　 　 （ ）和傅里叶变换红外吸收光谱（ ）对碳化硼薄膜的组分进行了定量表征，分析了功率变化对碳化硼组 ＸＰＳ ＦＴＩＲ 分的影响。利用纳米压入仪通过连续刚度法（ ）对碳化硼薄膜的硬度和模量等力学性能进行了分析。研究 ＣＳＭ 表明：随着功率的增大，硼与碳更易结合形成 — 键，在功率增大到 时，— 键明显增多；在 Ｂ Ｃ ２５０Ｗ Ｂ Ｃ ２５０Ｗ 时，硼与碳的原子分数比出现了最大值 ５．６６；碳化硼薄膜的硬度与模量都随功率的增大呈现出先增大后减小 的趋势，且在 时均出现了最大值，分别为 和 。 ２５０Ｗ ２８．２２ＧＰａ ３１４．６２ＧＰａ 关键词： 碳化硼薄膜； 射线光电子能谱； 力学性能； 磁控溅射； 溅射功率 Ｘ 　　 　 　 　 　 　 中图分类号： 文献标志码： ： ／ Ｏ４８４ Ａ 犱狅犻１０．３７８８ＨＰＬＰ２３１７ 　　 　 　　　　 　 　　 碳化硼（ ）相对于碳氢聚合物、金属铍等，因其原子序数低、强度高、烧蚀效率高等优点，在激光惯性约 ＢＣ 　　 ４ 束聚变（ ）物理实验研究中，碳化硼薄膜作为氘 氚（ ）燃料容器和靶丸