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单晶制备张与成智
单晶制备
张成智
按材料结晶状态分类
单晶:比较完整晶粒构成的材料,如:单晶纤维、单晶硅。
多晶:由多个晶粒构成的材料,其性能与晶粒大小和晶界的性质有密切的关系。
非晶:由原子或分子长程无序排列的固态材料,如:玻璃,聚合物。
准晶:(是20世纪80年代晶体学研究中的一次突破)它是无平移同期性但有位置序的晶体,如:在急冷凝固的Al Mn合金,具有五重旋转对称但并无无平移周期性。
下面我们来着重讲一下单晶
单晶的发展
随着电子技术、激光技术和一些新型陶瓷材料的迅速发展,在很多场合下需要单晶材料(材料整体只有一个晶粒,内部没有晶界)。
单晶是由结构基元(原子,原子团,离子),在三维空间内按长程有序排列而成的固态物质。或者说是由结构基元在三维空间内,呈周期排列而成的固态物质。如水晶,金刚石,钻石、宝石等。
单向有序排列决定了它具有以下特征:
(1)均匀性:同一单晶不同部位的宏观性质相同;
(2)各向异性:在单晶的不同方向上一般有不同的物理性质;
(3)自限性:单晶在可能的情况下,有自发地形成一定规则几何多面体的趋向;
(4)对称性:单晶在某些特定的方向上其外形及物理性质是相同的;
(5)最小内能和最大稳定性:物质的非晶态一般能够自发地向晶态转变。
单晶是如何做出来的呢?
单晶硅
单晶的生长工艺
单晶材料的制备又称晶体生长,是物质的非晶态,多晶态,或能够形成该物质的反应物,通过一定的物理或化学手段转变为单晶状态的过程。
单晶材料的制备关键是避免多余晶核的形成,保证唯一晶核的长大,因此,要求材料纯度高,以避免非均匀形核,过冷度低以防止形成其它晶核。
晶体生长方法
1、提拉法
提拉法,又称邱克拉斯基(Czochralski)法,简称CZ法。
1)同成分的结晶物质熔化,但不分解,不与周围反应。
2)预热籽晶,旋转下降与熔体液面接触,待籽晶微熔后,缓慢向上提拉。
3)降低坩埚温度或熔体温度梯度,不断提拉籽晶,使其变大
4)保持合适温度梯度与提拉速度,使晶体等径生长。
5)晶体生长所需长度后,拉速不变,升高熔体温度或熔体温度不变,加快拉速,使晶体脱离熔体液面。
6)退火处理,以提高晶体均匀性和消除存在的内应力。
籽晶
说到籽晶,我们先说说惯习面。惯习面:结晶通常在一定晶体学平面上形成,这个平面就是惯习面。因为结晶时为了保持能量最低,所以惯习面一般是晶体结构的密排面。
使用籽晶的优点:作为非均匀形核点,可以使相变在其它均匀形核点所需要的温度发生;可以使晶体生长轴沿着与结晶轴平行的方向生长。适于半导体单晶Si、Ge及大多数激光晶体。
上下的转速一样
在一定温度场、提拉速度和旋转速度下,熔体通过籽晶生长,形成一定尺寸的单晶。其优点有:通过精密控制温度梯度、提拉速度、旋转速度等,可以获得优质大单晶;.可以通过工艺措施降低晶体缺陷,提高晶体完整性;通过籽晶制备不同晶体取向的单晶;.容易控制。
提拉法的缺点是:.由于使用坩埚,因此,容易污染;.对于蒸气压高的组分,由于挥发,不容易控制成分;.不适用于对于固态下有相变的晶体。
2、 提拉法的优缺点
2、 坩埚下降法
2、 坩埚下降法
又称Bridgman-Stockbarger法,在下降坩埚的过程中,能精密测温、控温。过热处理的熔体降到稍高于凝固温度后,坩埚下降至低温区,此时该部位呈多晶生长,当某一晶粒占优势时变为单晶生长。坩埚继续下降,晶体继续生长,直至 熔体全部进入低温区转变 为晶体,晶体生长结束。 最后进行晶体退火。 这种方法操作简便,可生 长很大尺寸的晶体。
其原理和提拉法一样。
坩埚下降法优缺点
生长晶体的优点有:
坩埚封闭,可生产挥发性物质的晶体;
成分易控制;
可生长大尺寸单晶;
常用于培养籽晶。
生长晶体的缺点有:
不宜用于负膨胀系数的材料;
由于坩埚作用,容易形成应力和污染;
不易于观察。
3、泡生法
又称KyroPoulos法,过热熔体降温至稍高于熔点,将籽晶浸入熔体中使其微熔,降低炉温或冷却籽晶杆,使籽晶周围熔体过冷,生长晶体。控制好温度,就能保持晶体不断生长。 待其达到所需尺寸时,将晶体提出液 面,停止生长。最后晶体退火。
本方法常用来生长碱金属卤化物、
蓝宝石等晶体。
蓝宝石属三方晶系,其晶体结构存在两个主要的滑移体系:底面滑移系和柱面滑移系。因此,在其生长工艺中,合理地选
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