LCD薄化工艺介绍及不良案例分析.ppt

内 容 1.化学薄化设备介绍 2.化学薄化工艺介绍 3.主要不良案例分析 玻璃薄化工艺介绍及不良案例分析 * /15 LCD薄化工艺介绍及不良案例分析 一、化学薄化设备介绍 设备组成： Loader单元 预清洗单元 蚀刻单元 清洗单元 干燥单元 Unloader单元 洗气装置 供酸装置 温度控制器 HF酸浓度计 化学薄化设备实图 二、化学薄化工艺介绍 1.反应时间与玻璃质量损失的关系（注：图表中所研究玻璃为石英玻璃） 图1.反应时间与玻璃质量损失之间的关系 2.反应速率与反应温度的关系 图2.玻璃在HF酸中反应速率与反应温度之间的关系 3.反应速率与HF酸浓度的关系 图3.玻璃在HF酸中反应速率与HF酸浓度之间的关系 1.9412 0.0119 10.1739 0.0996 0.1115 22.5 1.3431 0.0117 4.8704 0.0673 0.079 11.23 1.1488 0.0115 3.563 0.0569 0.0684 8.4 0.919 0.0113 2.2803 0.0446 0.0558 5.58 0.6233 0.0108 1.0491 0.0289 0.0396 2.79 0.4166 0.0101 0.4686 0.0181 0.0282 1.4 HF F- (HF)2 HF2- H+ Composition [HF]t 25℃时不同浓度HF酸中各组分的浓度(mol/l) 说明反应速率与(HF)2的浓度有很大的相关性，是HF酸溶液中的最主要活性成分，因为以氢键形式存在的H－F键比HF分子中的H－F键更脆弱，与SiO2反应时更容易断裂。 三、主要薄化不良案例分析 1.不可擦拭脏污 脏污区域 正常区域 可判定不可擦拭脏污在蚀刻过程中产生 结论：薄化前的玻璃表面品质直接决定薄化后玻璃表面品质 为什么局部蚀刻速率不一致 为什么不是所有玻璃表面都是玻璃成分 为什么胶类物质未被清除 为什么局部表面不平整 为什么产生不可擦拭脏污 因为玻璃表面不是所有区域都是玻璃成分 因为玻璃被蚀刻时局部蚀刻速率不一致 因为玻璃薄化时局部表面不平整 清除不彻底、脏污漏擦拭 薄化前玻璃表面有胶类物质未被清除 测量系统 环境 材料 工艺方法 设备 人 检查方法 检查工具 温度 照度 湿度 胶的黏度 无尘布去污性能 X3 无尘布更换频度 X2 擦拭方法 X1 工作技能 识别脏污能力 清洁度 工具 产生脏污 接触位置 酒精浓度 X4 接触次数 2.薄化表面不匀 薄化表面不匀产生原因： 1.Conveyer故障 处理故障必须先停止蚀刻液供应，必将造成玻璃表面药液残留，继续与玻璃进行蚀刻速率不一致的反应。形成水波纹状表面不匀 2.瀑布流分叉（瀑布流蚀刻方式） 瀑布流平台由于蚀刻后反应物堆积造成分叉，玻璃传送至分叉位置时蚀刻速率降低造成局部不平整。 3.Nozzle堵塞（喷淋式蚀刻方式） Nozzle堵塞造成玻璃局部蚀刻液更新不及时，间接降低药液浓度，从而降低蚀刻速率，形成表面不匀。 薄化表面不匀对显示的影响 光线透过玻璃表面，在表面不匀处形成折射，造成光的垂直分量减弱，与周围 正常相比产生亮度的差异。 薄化表面不匀改善方向（以瀑布流蚀刻方式为例） 1.对循环药液储罐增加过滤装置，防止蚀刻产物堆积在瀑布流平台，造成瀑布流分叉。 2.增加瀑布流平台的保养频度，及时清理瀑布流平台的堆积产物。 3.调整蚀刻液配方，使部分蚀刻产物溶于蚀刻液中，减少堆积和堵塞。 * *