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自动化仪器仪表在半导体行业应用趋势
自动化仪器仪表在半导体行业应用趋势 摘 要:本文针对现阶段自动化仪器仪表的技术状况,结合半导体行业中的应用需求,浅议未来自动化仪器仪表在集成技术、人机对话技术以及可靠性方面的发展趋势。
关键词:自动化测试仪表 可靠性 人机对话
中图分类号:TP21 文献标识码:A 文章编号:1672-3791(2013)01(c)-0000-01
科学技术的飞速发展促使社会意识形态发生转变,使得人们对生活的追求更加富有人文主义特色,社会各领域对环境的要求更加严格,对产品的现代化程度要求更高,其中节能减排战略促使新型能源产业风靡全球,带动了全球半导体技术的进一步发展,比如太阳能行业逐渐成为新时期的朝阳产业,该行业中对仪器仪表提出了新的要求。作为现代化仪器仪表的制造商,间接地为现代化科技的发展创造了基础科研平台,通过提供先进的仪表,可以提高用户的生产效率,提升产品质量,监控排放,为低碳经济做出更大的贡献。
1 半导体行业对自动化仪器仪表需求分析
1.1 自动化仪器仪表现状
全球科技创新的日新月异带动了我国制造业的飞速发展,进入新世纪以来,我国半导体行业对自动化仪表的需求明显加强,无论从技术特点还是市场数量上都呈现递增趋势,从技术含量上分析,我国科研、量产中所使用的自动化仪表已经处于世界领先水平。
上世纪初,国内仪器仪表稳步发展,主要源于工业半导体行业的需求增加,从技术层面上拉动了整个行业技术水平的提升,尤其在新产品开发上取得了显著成效,比如说拥有自主知识产权的电磁流量计、智能化电动机执行系统等。
1.2 半导体行业对自动化仪器仪表的需求分析
目前,我国半导体行业使用较多的仪器仪表主要是小型检测单元,比如在集成电路、液晶显示、半导体薄膜、太阳能电池制备等领域的使用较为频繁。自动化仪器仪表的使用往往依赖于半导体设备的发展程度,现阶段该行业中使用较多的是各种薄膜沉积系统、成分检测系统等,涵盖面较广的是PECVD(plasma enhanced chemical vapor deposition)、HWCVD(Hot wire chemical vapor deposition)、MOCVD(metal organic chemical vapor deposition)系统以及相关检测设备等。半导体设备中对压力计、传感器、流量计、温度计等元器件的使用较多,尤其在半导体行业制备薄膜材料的工艺中对以上元器件的要求相对较高。
(1)压力表
由于半导体技术具有相对较高的精密性,在半导体薄膜的制备工艺中,要求对工艺参数精确控制,反应腔室内部工艺气体的压力大小,成为该行业工艺技术中的核心参数。对工艺气体压力的检测通常采用压力计以及相关的各种真空检测设备。半导体设备的正常运行必须以厂务设施作为保证,包括水、电、气等条件,其中“水”主要用于设备冷却或者恒温加热,因此需要采用压力表对水压、CDA(condensed air)等进行严格控制方可保证工艺正常运行。
(2)流量计
流量计一般应用在化学沉积系统中,对气体流量起到监测、控制作用。对于半导体工艺来说,产品制备工艺参数是决定器件性能的关键因素,其中化学气相沉积系统中反应气体的流量对最终产品质量起到直接的决定性作用,对气体流量的控制不仅要体现动态时效性,更重要的是要在量的控制上具备较高的精确度,目前国内制备MFC的技术已相对成熟,为我国半导体行业的发展奠定了基础。
(3)传感器
传感器在现代工业时代的使用极为广泛,半导体设备中对传感器的使用大多体现在设备机械传动部分。在半导体产品制造中,要实现设备的流水线运行,离不开高可靠型的传感器元件,通过传感器协调不同工序、设备不同部位的联动,进而保证整个工艺的流水线运行。
(4)温度计
随着科学技术的发展和现代工业技术的进步,测温技术也不断地改进和提高,其中金属温度计是利用两种不同金属在温度改变时膨胀程度不同的原理工作的,在半导体紧密制造中通常用来检测液体、气体的温度,测试温度偏中低水平,适合工艺流程中在线、动态、实时监测。
半导体工艺中对金属温度及的使用大多是用来检测特殊反应气体的温度,由于普通加热器很难通过热电偶检测衬底温度,通常在反应腔室特殊部门安装金属温度计监测生长基元的温度,从测量精度和实际可操作性上提高了半导体工艺的可行性。
2 自动化仪器仪表在半导体行业的发展趋势
自动化测试仪表技术未来发展趋势主要体现在高智能化、高可靠性、高精密度、优良的响应性能等方面,半导体行业仪器仪表技术主要针对具体应用特性而体现出以下几个发展方向:
2.1 人机对话智能化发展
人机对话技术是自动化仪器仪表发展的核心方向,也是未来信息化社会的主流技术,半导体行
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