国内外三氟化氮生产技术及市场分析.docx

国内外三氟化氮生产技术及市场分析龚海涛(浙江衢化氟化学有限公司 ,浙江 衢州 324004 )摘 要 :介绍了三氟化氮的主要性质 、用途 ,对国内外三氟化氮的制备工艺及纯化方法进行了比较 ,同时对国内外三氟化氮市场进行了分析和预测 。关键词 :三氟化氮 ;制备 ;纯化 ;专利 ;市场分析剂 ,与全氟烃相比 ,可减少污染物排放量约 90 % ,且可显著提高清洗速度 ,从而可提高清洗设备能力约30 % 。NF3 还 可 用 作 蚀 刻 剂 , 也 用 于 液 晶 显 示 器1 三氟化氮的基本物性和用途1. 1 三氟化氮的基本物性分子式 N F3 ,相对分子量是 71. 002 ,常温下为无 色有毒气体 ,熔点 - 206. 8 ℃,沸点 - 129 ℃,是三卤化氮中最稳定的一种 ,但和水 ( H2 O ) 、氢气 ( H2 ) 、氨 气 (NH3 ) 、一氧化碳 ( CO )或硫化氢 ( H2 S)等的混合气体遇火花即发生猛烈的爆炸 。该物质的其他性质 详见附件 1。三氟化氮易与血红蛋白反应 ,吸入人体后危险 较大 。与爆炸性气体 、氧化剂 、水和蒸汽混合物加热 时 ,在火花或明火条件下发生爆炸 。N F3 的反应性与氟相似 ,具有在等离子条件下释放氟 ( F ) 的 能 力 , 是 一 种 热 力 学 稳 定 的 氧 化 剂 。 在 350 ℃其反应活性相当于氧 (O ) ,在高温下能与许多元素反应 ,生成四氟化二氮 (N2 F4 )和相应的氟化物 。N F3 可作为游离基的供给源 , N F3 比 F2 稳定 且易于处理 。正是由此性质 , N F3 在等离子工艺中既可 作 为 淀 积 等 离 子 体 增 强 化 学 沉 积 ( p la sm en2hanced chem ica l vapo r depo sition, PECVD ) 氮化硅源 气体 ,又可在蚀刻氮化硅时作为腐蚀气体 。其亦可作为一种气体清洗剂 ,用于半导体芯片生产的化学气相沉积 ( chem ica l vapo r depo sition, CVD )室和液晶 显示器面板中 。尤其将其用在化学气相沉积室的清 洗中 ,可使生产率提高 30 % ,排放物减少 90 % ,且操作简便 ,所以迅速被人们认可 。1. 2 三氟化氮的用途作为半导体工业中气体清洗剂的全氟烃 ( PFC ) 对环境有害 ,近年来有逐渐被三氟化氮 (N F3 ) 取代 之势 。使用 N F3 作为化学蒸气沉积 ( CVD ) 箱清洗(LCD )的加工 。为此 ,近年来 NF 需求量急剧增长 , 903年代中期全球年用量不到 46 t, 2003年为 1 800 t, 2004年为 2 200 t。为满足日益增长的需求 ,世界各生产 商均在积极扩大生产能力 ,预计每年将继续增长约15 % ,随着各生产厂家产能不断扩大 , 2005 年全球三氟化 氮 生 产 能 力 为 5 000 t / a。但 是 三 氟 化 氮(N F 的 GW P值高达 10 800 ,今后的发展可能会为此受到一定的限制 。3 )2 三氟化氮的制备方法N F3 制备方法中主要有以下 5 种工艺 : 氟与氨直接化合法 ;氟和氟化氢铵法 ; 氟和氟化氢法 ; 元素 氟氟化氟化氢中的 尿素 ; 氟 化氢 铵 熔融 盐电 解 法 。 下面分别进行介绍 。2. 1 氟与氨直接化合法日本的昭和电工 2006. 8. 25 申请的《三氟化氮 的制造方法及其制造装置 》: 将氟气和氨气供给到 管状反应器中 ,使其在稀释气体的存在下 、气相中 、 无催化剂条件下进行反应 ,生成主要含有三氟化氮的气体生成物和主要含有氟化铵和 /或酸式氟化铵 的固态生成物 ,利用安装在上述管状反应器上的用 于除去上述固态生成物的装置 ,来除去附着在上述 管状反应器的内壁的上述固态生成物 。美国的气体产品与化学公司 2003. 11. 19 申请 的《三氟化氮的生产方法 》: 一种由分散于液相反应混合物中的氟反应物和铵离子源制备三氟化氮的方 法 ,该液相反应混合物包含一种或多种本文公开的有 机 氟 工 业O rgano - F luo rine Indu stry·42·2009年第 1期全氟化碳液体 。在一个实施方案中 ,氟反应物在 90～120 ℃的温度范围内输入反应混合物中 。在这个尤其是 可 将 生 产 原 料 的 成 本 降 至 原 来 的 30 % ～50 % 。2. 4 元素氟氟化氟化氢中的尿素俄罗斯的皮姆 - 因维 斯特 科 学生 产食 品股 份 公司 2002. 1. 15 申 请 的《三 氟 化 氮 的 制 备 方 法 》: 在 - 20 ～0 ℃温度和氟对起始的化合物的摩尔比不