PECVD法制备氮化硅减反射膜和减反射膜在太阳能电池中的应用.docVIP

PECVD法制备氮化硅减反射膜和减反射膜在太阳能电池中的应用 作者:何万雄 班级：光伏材料加工与应用 指导老师：冷新莉 学号：49 摘要 随着不可再生资源的减少，环境污染的加重，世界人民为了生存、为了发展，更为了保护我们的地球。不得不寻找新的能源、可再生资源，所以取代这些 能源的将是风能、核能、太阳能等。而太阳能是未来最清洁、安全和可靠的能源，发达国家正在把太阳能的开发利用作为能源革命主要内容长期规划，光伏产业正日益成为国际上继IT、微电子产业之后又、爆炸式发展的行业。 利用太阳能的最佳方式是光伏转换，就是利用光伏效应，使太阳光射到硅材料上产生直流直接发电。以硅材料的应用开发形成的产业链条称之为“光伏产业”,包括太阳电池的生产、相关生产设备的制造等。随着太阳能电池的大量生产，面对的问题也越来越多，电池效率的转化却很低很低，随之就是成本大，利润小。人们又不得寻找让电池提高转化效率的材料（减反射膜）。减反射膜制备技术是太阳能电池生产的关键技术之一，它能减少入射光的反射，增加光的吸收，从而增加光生载流子的数量，提高短路电流，进而提高太阳电池的效率。由于多晶硅不能像单晶硅太阳电池一样，能在受光面进行完美的结构化，起到减反射的效果，所以减反射膜的作用就显得尤为重要。如果这层膜不仅能起到减少光损失的作用，也能起到表面钝化和体钝化的效果的话，对太阳电池的效率的提高和成本的降低有很多益处。虽然热生长的SiO也能起到表面钝化和减反射的作用，但是由于二氧化硅表面钝化是一个高温工艺过程，通常的钝化温度都在800 以上，高温过程易使半导体衬底产生缺陷，少子寿命下降，这对于太阳电池及硅材料尤为突出，并且引起衬底浓度的再分布；另一方面和太阳电池减反射膜要求的最佳折射率相比，二氧化硅的折射率偏低。近几年的研究说明，用低温（250~450 ）PECVD法沉积SiN做多晶硅太阳电池的光学减反射膜是进一步提高多晶硅太阳电池光电转换效率的关键。 关键字：太阳能电池 减反射膜 反射膜材料 PECVD 一 薄膜的生长过程概述 薄膜的生长过程直接影响到薄膜的结构以及它最终的性能。像其他材料的相变问题一样，总可以把薄膜的生长过程大致划分为两个阶段，即新相形核与薄膜生长阶段。在薄膜形成的最初阶段，一些气态的原子或分子开始凝聚到衬底表面上，从而开始了所谓的形核阶段。首先形成了均匀细小，而且可以运动的原子团。我们有时又形象的将这些原子团称之为岛。这些比临界核心尺寸小的小岛接受新的原子开始长大，而岛的数目则很快达到饱和。小岛像夜珠一样通过相互合并而扩大，而突出的衬底表面上又形成新的岛。这一小岛形成与合并的过程不断进行，直到孤立的小岛之间相互连接成片，最后只留下一些孤立的空洞，并逐渐被后沉积的原子所填充。 薄膜的生长可被分为三种模式： （1）岛状生长模式：这一生长模式表明，被沉积物质的原子或分子更倾向于自己相互间结合起来，而避免与衬底原子键合，即被沉积物质与衬底之间的侵润性较差。 （2）层状生长模式：当被沉积物质与衬底之间侵润性很好时，被沉积物质的原子更倾向与衬底原子键合。因此，薄膜从形核阶段开始即采取二维扩展模式。显然，只要在随后的过程中，沉积物原子间的键合倾向仍大于形成表面的倾向，则薄膜生长将一直保持这层状生长模式。 （3）中间生长模式：在层状-岛状中间生长模式中，在最开始一两个原子层厚度的层状生长之后，生长模式转化为岛状模式。导致这种模式转变的物理机制比较复杂， SiN生长属于此类。 二 减反射 1.减反射膜的定义 建反射膜又称增透膜，它的主要功能是减少透镜、棱镜、平面镜等光的学表面的反射光，从而增加这些元件的透光量，减少或消除系统的杂散光。最简单的增透膜是单层膜，它是镀在光学零件表面上的一层折射率较低的薄膜、如果膜层的光学厚度是某一波长的四分之一，相邻两束的的广程恰好为 ，即振动方向相反，叠加的结果使光学表面对该波的反射率减少。适当选择膜层折射率，这时光学表面的反射光可以完全消除。 一般情况下，采用单层增透膜很难达到理想的增透效果。为了在单波长实现零反射，或在较宽的光谱区达到好的增投效果，往往采用双层、三层甚至更多层的减反射膜。减反射膜是应用最广，产量最大的一种光学薄膜。因此，它至今是光学薄膜技术中重要的研究课题，研究的重点是寻找新的材料，设计新的膜系，改进淀积工艺，使之用最少的层数，最简单、最为稳定的工艺，获得尽可能高的成品率，达到最理想的效果。对激光薄膜来说，减反射膜是激光损伤大的薄弱环节，如何提高他的破坏强度也是人们最关心问题之一。 2 减反射膜原理 光照射到平面的硅片上，其中一部分被反射，即使对绒面的硅表面，由于入射光产生多次反射而增加了吸收，但也有约11%的反射损失。在其上覆盖一