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光刻厚膜工艺技术研究.pdfVIP

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  • 2018-01-12 发布于未知
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光刻厚膜工艺技术研究.pdf

    第-1-四届-e仝lZl混合集成电路学术会议论文集 光刻厚膜工艺技术 万 鹏 (上海贺利氏工业技术材料有限公司， 上海201108) 610A银导体为例，介绍了光刻厚膜浆 摘要：本文以HERAEUS贺利氏KQ500金导体及KQ 料的应用工艺，重点对工艺流程中的导体层制作及光刻胶覆盖作了较为详细的阐述。 关键词：光刻 厚膜 曝光 蚀刻 forThickFilm PhotoetchingTechnology WanPeng HERAEUSIndustrial Material 201108) (Shanghai TechnologyCo．，Ltd，Shanghai Abstract：ThistakesHeraeus AuconductorandK

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