光刻机照明系统专利分析研究.pdfVIP

光刻机照明系统专利分析 张海波，林妩媚，廖志杰，白 瑜，冯建美，邢廷文 (中国科学院光电技术研究所，四川 成都 610209) 摘 要 ：为了解光刻机照明系统的技术发展方向和技术研 究热点及技术成熟度 ，并为科研人 员 提供技术参考 ，对光刻机照明系统技术专利文献进行 了检 索．并对专利文献数据进行 了统计分 析，分别从专利权人分布、国际专利分类号分布、专利 申请 国分布和年度发展趋势及技术生命周 期等几个方面进行统计分析 。揭示 了国内外光刻机照明系统专利申请的主要专利权人依 次为阿 斯麦、尼康、佳能和蔡司．专利文件分布的主要技术领域为半导体器件和其部件的制造处理等方 面，专利文件的年度 申请在 2004年 出现最高峰 ．之后开始下降，并结合技术生命周期 曲线图，指 出光刻机照明系统技术 已经历 了从萌芽、发展 、成熟阶段 。同时进行 了重要专利文件的挖掘 ，分析 了技术研 究热点 ，追踪核心专利 文件的技术发展脉络 ：并对偏振 照明技 术作 出技 术一功效矩阵分 析图，分析 出技术研 究热点 ，并提 出我 国科研人 员应利用未在我 国进行保护的重要专利技术 ，为