利用碱性蚀刻废液制备纳米铜导电浆料的研究.ppt

2011/3/16 广东成德电路股份有限公司 广东成德电路股份有限公司 工程技术研究开发中心 （广东工业大学产学研基地） 陈良 2011-10-21 利用碱性蚀刻废液制备纳米铜导电浆料的研究 目 录 前言 实验部分 结果与讨论 结论 前 言 在印制电路板制造过程中，碱性蚀刻是一个重要的工序。工艺上，随着蚀刻的不断进行，蚀刻液中的铜离子浓度不断升高，当铜离子浓度达到一定浓度，将会影响蚀刻的效果。一般的电路板厂均通过自动添加的方式将碱性蚀刻废液排放到废液处理池中，交给专业的环保回收公司进行资源循环利用。碱性蚀刻液的主要成分是铜氨络合物、氯化铵及氨水，铜的质量浓度可达120-180g/L。 目前，对于碱性蚀刻液中铜的处理大致可以分三大类方法：化学沉淀法、萃取电沉积、直接电沉积等三种。然而这些方法存在一些不足之处： ①化学沉淀法碱的消耗量比较大而且所得到产物附加值不高，经济效益低。 ②萃取电沉积法工艺比较复杂，耗电能比较大，而且电沉积以后的废液也达不到排放的标准。 ③直接电沉积法耗能比较大的，回收率不高，工序复杂。 在近几年来各种金属和非金属导电浆料先后研发出来。目前市场已经有的导电电子浆料中多为金属填充型导电油墨，如导电银浆、铜浆、碳浆等。尤其是银浆料、碳浆料的研究，部分已经市场销售了。然近20年来，各种贵金属价格猛涨近10倍，使得各种贵金属电子浆料制造成本急剧增高，电子产品利润持续走低。90年代中期，以台湾、日本企业为先导，开始了电子浆料产业的一次彻底革新，用一些贱金属例如铜、镍等代替一些贵金属，即浆料制备的贱金属。目前铜粉导电胶在电性能方面基本接近银粉导电胶，同时还有成本低的优点。据此，我们以碱性蚀刻废液中铜离子作为原料，用水合肼作为还原剂制备铜的导电浆料，优点在于水合肼被氧化后的产物是氮气和水，不引入其他杂质。 1.实验药品与仪器 水合肼（AR，成都市科龙试剂厂） 氢氧化钠（AR，天津市福晨化学试剂厂） 吐温（AR，广州市化学试剂厂） 丙酮（AR，广州市化学试剂厂） 聚乙烯吡咯烷酮（AR，成都市科龙试剂厂） 聚氨基甲酸酯PU（工业级） 异丙醇（AR，成都市科龙试剂厂） 油酸（AR，广州市化学试剂厂） 三乙醇胺（AR，成都市科龙试剂厂） 三亚乙基四胺（AR，广州市化学试剂厂） 日本RIGAKU D-MAX?2200?VPC型号X衍射仪 日本日立S-3400N型号扫描电子显微镜 实验部分 2.实验过程 将取碱性蚀刻废液进行过滤以除去悬浮物和沉淀杂质； 将滤液转移到三口瓶容器中，加入一定量的吐温和聚乙烯吡咯烷酮，作为反应溶液A； 配制还原性溶液B，B溶液中包含了一定量的还原剂水合肼和强碱性物质氢氧化钠，开启搅拌，将恒温水浴温度调节到85-90℃，将B溶液缓慢的滴加到A溶液中，反应完全以后，过滤得到铜粉； 将得到的铜粉加入的由油酸和丙酮组成的溶液中钝化30min，钝化以后过滤得到表面已处理的铜粉放入真空干燥器烘干，烘干温度为60-80℃； 将干燥以后的铜粉研磨后加入到由聚氨基甲酸酯、异丙醇、油酸组成的浆料中去，先超声搅拌30min以上，然后加入浆料固化剂三乙醇胺和三亚乙基四胺，再机械搅拌30min，最后制得铜的导电浆料； 将制备好的导电浆料涂在具有一定长度、宽度、厚度的PI或FR4基材上，然后将PI或FR4放入烘烤箱中,烘烤温度140-150℃，烘烤时间60min以上，测其体积电阻率。 3.实验结果 图1是在温度为75℃，pH为11.0，水合肼的浓度为3.0mol/L的条件下制得铜粉的XRD图谱。由图1可知，所测得的纳米铜粉XRD峰存在很明显铜的衍射峰,没有氧化铜、氧化亚铜等杂质峰；衍射峰尖锐，说明所得的粉体性较好，但是存在两个很微小的杂质峰，可能是碱性蚀刻废液在排放过程中引入的未知杂质。据衍射峰半波高的线宽度β以及通过Schemer公式可以计算出铜粉的粒度约为23.7nm左右，初步判断出所制备的铜粉在纳米级范围以内。 图1.铜粉的XRD图谱 图2是在温度为75℃，pH为11.0，水合肼的浓度3mol/L条件下制备的铜粉的SEM图。从SEM图可以看出制备的铜粉颗粒形状为球形形状。但有一定的团聚现象，可能是由于扫描的前处理不好，导致从图像中看出铜粉的分散性不够好。从SEM图看出，制备的铜粉颗粒尺寸在100纳米之内，与前面的铜粉利用衍射峰半波高的线宽度β以及通过Schemer公式计算出铜粉的粒度大少在纳米范围内基本吻合。 图2.铜粉的SEM图 表1为将纳米铜粉含量70%，连接剂含量为25%，浆料助剂含量5%所组成的导电浆料涂印在PI或FR4基材上，并将其放在烘烤温度为140℃，烘烤时间为90min形成的导电线路所测得到的体积电阻率。从表中可以得出制备出来的纳米铜导电浆其体积电阻率最低可以达