氮化铬过渡层对四面体非晶碳薄膜在高速钢基底上附着特性-物理学报.PDFVIP

物理学报 Acta Phys. Sin. Vol. 62, No. 9 (2013) 096802 氮化铬过渡层对四面体非晶碳薄膜在高速钢基底 上附着特性影响的研究* 1† 1 2 2 韩亮 刘德连 陈仙 赵玉清 1) ( 西安电子科技大学技术物理学院, 西安 710071 ) 2) ( 西安交通大学电子与信息工程学院, 西安 710049 ) ( 2012 年9 月23 日收到; 2013 年2 月18 日收到修改稿) 利用磁过滤阴极电弧与磁控溅射相结合的薄膜沉积技术在高速钢基底上制备了氮化铬/ 四面体非晶碳(CrN/ta- C) 复合涂层, 通过改变过渡层氮化铬(CrN) 的制备工艺, 研究了四面体非晶碳(ta-C) 薄膜在钢基底材料上的附着特 性的变化. 结果表明, 随着氮气流量的增大, CrN/ta-C 复合涂层中的氮化铬经过了Cr