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磷掺杂对非晶硅薄膜结构及光电性能的影响.PDF
See discussions, stats, and author profiles for this publication at: /publication/263379924
Effect of Phosphor-Doped Concentration on
the Optical and Electrical Properties of a-Si:H
Thin Films
Article in Kuei Suan en Hsueh Pao/ ournal of the Chinese Ceramic Society · April 2011
CITATIONS READS
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5 authors, including:
Guanchao Yin Xiujian Zhao
Helmholtz-Zentrum Berlin Wuhan University of Technology
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· 568 · 硅 酸 盐 学 报 2011 年
第39 卷第4 期 硅 酸 盐 学 报 Vol. 39 ,No. 4
2 0 1 1 年 4 月 JOURNAL OF THE CHINESE CERAMIC SOCIETY April ,2011
磷掺杂对非晶硅薄膜结构及光电性能的影响
殷官超,高 峰,袁文辉,夏冬林,赵修建
(武汉理工大学,硅酸盐材料教育部重点实验室,武汉 430070)
:
摘 要:采用射频等离子增强化学气相沉积方法制备了磷掺杂氢化非晶硅(a-Si H)薄膜。通过Raman 散射光谱研究了不同磷烷掺杂含量薄膜的微结构,
利用分光光度计对薄膜的厚度、消光系数和折射率进行了模拟,用高阻仪测得了非晶硅薄膜暗电导率。结果表明:薄膜的中程有序度随着磷掺杂量φ(体
–3
积分数) 的增加而减小;折射率在φ
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