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实验三 霍尔效应
实验三 霍尔效应
【实验目的】
1.观察霍尔现象。
2.了解应用霍尔元件测量磁场的原理和方法。
3.用电位差计测量霍尔电压及电流,进一步掌握电位差计的使用方法。
【实验原理】
霍尔效应:
1879年霍尔在研究载流导体在磁场中受力的性质时发现,当工作电流(额定控制电流)垂直于外磁场方向通过导电体时,在垂直于电流和磁场的方向的物体两侧产生电位差,称为霍尔电势差。这一效应称为霍尔效应。
图3-1 带电粒子受力图
这个效应对金属来说是不显著的,但对半导体却非常显著。在半导体中利用这种效应可以做成具有广泛应用的霍尔元件,用于磁场测量、功率测量及作为模拟运算的乘法器,应用到非电量测量方面,可作为压力、位移和流量测量的传感器。
霍尔电势差产生原因:
假设有一块宽为a,厚为b,长为l0的N型半导体(载流子为电子),电流I沿y轴方向通过,磁场沿z轴方向,电子电量为q。则样品中以平均漂移速度为v(沿y方向)的载流子(电子)在磁场中受洛仑兹力fm作用,fm的大小为:
fm=qvB (3-1)
方向如图3-1(b)所示的-x方向。
载流子(电子)在fm的作用下沿x轴负方向偏转,引起A侧有电子的积累,B侧正电荷的积累,在侧面电荷的积聚将在薄片样品中产生阻止电子继续向x轴方向运动的电场EH,使载流子又受到电场力
fe=qEH (3-2)
的作用。电场力fe的方向和洛仑兹力fm方向恰好相反,它将阻碍电荷向侧面的继续积累,因此载流子在薄片侧面的积聚不会无限止地进行下去。开始阶段,电场力fe小于磁场力fm,电荷将继续向侧面积聚。随着积聚电荷的增加,电场不断增强,直到载流子受力fe = fm时,达到一种平衡状态,载流子不再继续向侧面积聚,此时薄片中的横向(A、B两侧面之间)电场强度为
则横向电场在A、B两表面间产生的电势差—霍尔电势差UH与EH的关系为
式中a为样品宽度。则
UH=EHa=vBa (3-3)
因为I=jab,j=qnv,所以
(3-4)
式中n为载流子浓度,j为电流密度,则
(3-5)
所以霍尔电势差 (3-6)
令为霍尔系数,其单位为m3/C。RH是反映材料霍尔效应强弱的重要参数,则
所以霍尔系数等于 (3-7)
由式(3-6)、(3-7)可得如下结论:
⑴ 载流子若为电子,霍尔系数为负,则UH<0;反之,若载流子为空穴,霍尔系数为正, 则UH>0。若实验中能测得样品电流强度I,磁感应强度B,霍尔电压UH,样品厚度b(实验室给出),就可求出霍尔系数RH值。根据RH的正负,可以判定半导体样品导电的类型(N或P型)。
⑵ 霍尔电势差UH与载流子浓度n成反比,薄片材料的载流子浓度n越大(霍尔系数UH越小),霍尔电势差UH就越小。一般金属中的载流子是自由电子,其浓度很大(约1022/cm3),所以金属材料的霍尔系数很小,霍尔效应不显著。但半导体材料的载流子浓度要比金属小得多,能够产生较大的霍尔电势差,从而使霍尔效应有了实用价值。
⑶ 根据RH=可得
(3-8)
若已知UH、I、B(由实验中确定),b(由实验室给出),就可根据式(3-8)确定该材料的载流子浓度n。严格一点,考虑载流子的速度统计分布,需引入的修正因子(可参阅黄昆、谢希德编的《半导体物理学》),即
(3-8′)
用这种方法也可研究浓度与温度的变化规律。
⑷ 对于确定的样品(a、b、q一定),如果通过它的电流“I”维持不变,霍尔电压UH和磁感应强度B成正比。因此可从测得的UH值,求得外磁场的磁感应强度,即用霍尔片制作测量磁场的仪器—特斯拉计的原理。
由(3-8)式可知
(3-9)
令 (3-10)
则 UH=KHIB (3-11)
KH称为霍尔灵敏度。KH表示霍尔元件在单位磁感应强度B和流经单位电流I时的霍尔电势差UH的大小。KH大小决定了当I、B一定时,霍尔电势差U
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