含氧硅基材料的荧光特性研究-南京大学学报自然科学.PDFVIP

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含氧硅基材料的荧光特性研究-南京大学学报自然科学

( ) 南京大学学报 自然科学 第 卷 第 期 , 53 3 Vol.53 No.3 JOURNALOFNANJINGUNIVERSITY 年 月 , 2017 5 Ma 2017 y ( ) NATURALSCIENCES : / DOI10.13232 .cnki.nu.2017.03.006 j jj 含氧硅基材料的荧光特性研究 1 1 2 1 1 1 , , , , , , 张 培 任林娇 葛兆云 杨 倩 齐汝宾 刘 帅 1 1 1 1* , , , 陈青华 闫艳霞 方 洁 姜利英 ( , , ; , , ) 1.郑州轻工业学院电气信息工程学院 郑州 4500022.江苏科技大学数理学院 镇江 212003 : ( ) / 摘 要 分别采用等离子体增强化学气相沉积 技术和金属辅助化学蚀刻的方法制备了纳米硅 二氧化硅 PECVD ( / )多层膜和多孔硅纳米线( )两种含氧的硅基材料 借助透射电子显微镜和扫描电子显微镜对样 ncSiSiO2 SiNW . - , , 品的微结构进行表征 在此基础上 利用稳态和时间分辨荧光光谱仪对两种材料的荧光特性进行测量 实验结果表 . , , , , 明 的尺寸越小 多孔 内的孔洞越多 样品的发光越强 但是发光峰不发生移动 在波长为 脉宽 ncSi SiNW . 355nm - , ( ) , 为 6ns的激光激发下 两种材料都具有微秒 μs的荧光寿命 对应于载流子从与氧相关的局域态发生辐射复合的 (

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