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含氧硅基材料的荧光特性研究-南京大学学报自然科学
( )
南京大学学报 自然科学
第 卷 第 期 ,
53 3 Vol.53 No.3
JOURNALOFNANJINGUNIVERSITY
年 月 ,
2017 5 Ma 2017
y
( )
NATURALSCIENCES
: /
DOI10.13232 .cnki.nu.2017.03.006
j jj
含氧硅基材料的荧光特性研究
1 1 2 1 1 1
, , , , , ,
张 培 任林娇 葛兆云 杨 倩 齐汝宾 刘 帅
1 1 1 1*
, , ,
陈青华 闫艳霞 方 洁 姜利英
( , , ; , , )
1.郑州轻工业学院电气信息工程学院 郑州 4500022.江苏科技大学数理学院 镇江 212003
: ( ) /
摘 要 分别采用等离子体增强化学气相沉积 技术和金属辅助化学蚀刻的方法制备了纳米硅 二氧化硅
PECVD
( / )多层膜和多孔硅纳米线( )两种含氧的硅基材料 借助透射电子显微镜和扫描电子显微镜对样
ncSiSiO2 SiNW .
-
, ,
品的微结构进行表征 在此基础上 利用稳态和时间分辨荧光光谱仪对两种材料的荧光特性进行测量 实验结果表
.
, , , ,
明 的尺寸越小 多孔 内的孔洞越多 样品的发光越强 但是发光峰不发生移动 在波长为 脉宽
ncSi SiNW . 355nm
-
, ( ) ,
为 6ns的激光激发下 两种材料都具有微秒 μs的荧光寿命 对应于载流子从与氧相关的局域态发生辐射复合的
(
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