高分子辅助沉积法制备氧化物和氮化物薄膜.pdfVIP

第38卷第5期 电子科技大学学报 Vbl．38No．5 Journal ofElectronicScienceand ofChina 2009年9月 ofUniversity Technology Sep．2009 高分子辅助沉积法制备氧化物和氮化物薄膜 X2 HM2，JIA 林媛1，杨丹丹1，代超1，刘升华1，LUO Q (1．电子科技大学微电子与同体电子学院电子薄膜和集成器件国家重点实验室成都610054； 2．LOS Alamos国家实验室新墨西哥美国87545) 【摘要】高分子辅助沉积法是近年来发展起来的一种薄膜沉积方法。该方法利用高分子与金属键合形成均匀稳定的溶液， 将溶液涂覆在基片上后，通过热处理使高分子分解而形成薄膜。该丈介绍了使用该方法制备的一些具有代表性的氧化物和氮 透射电镜、介电测试和光学测试等方法对薄膜的结构和性能进行了表征和分析，并探讨了基片和工艺条件对结构和性能的影 响．这些结果表明高分子辅助沉积法可以广泛应用于制备各种高质量的氧化物和氮化物薄膜。 关键词氧化物薄膜；外延生长； 高分子辅助沉积法； 氮化物薄膜 中图分类号056 文献标识码A doi：10．3969／j．issn．1001-0548．2009．05．005 Assisted ofoxideandnitridefilms Polymer Deposition LIN H JIAXz Yuanl，YANGDan-danl，DAICha01，LIU M2，andQ Sheng-hual，LUO ofElectronicThinFilmsand ofMieroelcctricsandSolidState (1．StateKeyLabomtory IntegratedDevices，School Elect】ronics， UniversityofElecln-onicScienceandTechnologyofChinaChangdu610054； 2．LOSAlamos NewMexicoUSA National Laboratory 87545) Abstract assisted a newthinfilm whichhasbeen Polymer deposition(PAD、iS depositiontechnique this solutionsofmetal andwater—solubleare developed technique，aqueous precursors polymers recently．In combined resultsin and solutions themetalionstothe together．Thishomogenoussteady bybinding polymers． the