8光刻胶应变分布光学全场检测方法.PDFVIP

第９卷　第３期 　　　　 　　中国光学　　　　　　　 Ｖｏｌ．９　Ｎｏ．３ 　 　　 　　　　　　　 ２０１６年６月　 　 　 Ｊｕｎ．２０１６ ＣｈｉｎｅｓｅＯｐｔｉｃｓ 文章编号　２０９５１５３１（２０１６）０３０３７９０６ ＳＵ８光刻胶应变分布光学全场检测方法  王　鑫，王永红 ，吕有斌，卢怡如，涂思琪 （合肥工业大学仪器科学与光电工程学院，安徽 合肥２３０００９） 摘要：由于ＳＵ８光刻胶的内应力将会影响高深宽比结构的全金属光栅的制作质量，本文针对近年来ＳＵ８光刻胶应力测 量困难的情况，提出了一种基于激光剪切散斑干涉技术的ＳＵ８光刻胶应变分布测量的新方法。该方法通过对被测胶体 加载前后两幅干涉图像的处理，直接得到被测胶体结构的全场应变分布情况，由胶体的应变变形数据即可反映出内应力 的变化和分布趋势。同时使用ＡＮＳＹＳ有限元分析软件对同一被测胶体进行应变仿真模拟研究，获得胶体结构的变形场 仿真数据。组建了实验系统，进行了实验验证，结果表明：实际测量变形量约为 １１８９ ｍ，仿真的最大变形量为 μ １０８８ ｍ，测量误差在允许范围内，且测量的形变趋势与仿真模拟结果相一致，表明激光剪切散斑干涉技术可应用于 μ ＳＵ８光刻胶的应变分布全场无损检测。 关　键　词：剪切散斑干涉；ＳＵ８光刻胶；应力分布；应变；仿真模拟 中图分类号：ＴＰ３９４．１；ＴＨ６９１．９　　文献标识码：Ａ　　ｄｏｉ：１０．３７８８／ＣＯ０３７９ Ｗｈｏｌｅｆｉｅｌｄｏｐｔｉｃａｌｄｅｔｅｃｔｉｏｎｍｅｔｈｏｄｏｆｓｔｒａｉｎｄｉｓｔｒｉｂｕｔｉｏｎ ｏｆＳＵ８ｐｈｏｔｏｒｅｓｉｓｔ  ＷＡＮＧＸｉｎ，ＷＡＮＧＹｏｎｇｈｏｎｇ，ＬＹＵＹｏｕｂｉｎ，ＬＵＹｉｒｕ，ＴＵＳｉｑｉ （ＳｃｈｏｏｌｏｆＩｎｓｔｒｕｍｅｎｔＳｃｉｅｎｃｅａｎｄＯｐｔｏｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃＥｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ， ＨｅｆｅｉＵｎｉｖｅｒｓｉｔｙｏｆＴｅｃｈｎｏｌｏｇｙ，Ｈｅｆｅｉ２３０００９，Ｃｈｉｎａ） Ｃｏｒｒｅｓｐｏｎｄｉｎｇａｕｔｈｏｒ，Ｅｍａｉｌ：ｙｈｗａｎｇ＠ｈｆｕｔ．ｅｄｕ．ｃｎ Ａｂｓｔｒａｃｔ：ＴｈｅｑｕａｌｉｔｙｏｆｆｕｌｌｍｅｔａｌｇｒａｔｉｎｇｉｓａｆｆｅｃｔｅｄｂｙｉｎｔｅｒｎａｌｓｔｒｅｓｓｏｆＳＵ８ｐｈｏｔｏｒｅｓｉｓｔ．Ｃｏｎｓｉｄｅｒｉｎｇｔｈｅ ｓｔｒｅｓｓｍｅａｓｕｒｅｍｅｎｔｏｆＳＵ８ｐｈｏｔｏｒｅｓｉｓｔｉｓｄｉｆｆｉｃｕｌｔｉｎｒｅｃｅｎｔｙｅａｒｓ，ｔｈｅｓｈｅａｒｏｇｒａｐｈｙｉｓａｐｐｌｉｅｄｔｏｍｅａｓｕｒｅｔｈｅ ｓｔｒａｉｎｄｉｓｔｒｉｂｕｔｉｏｎｏｆＳＵ８ｐｈｏｔｏｒｅｓｉｓｔｗｈｉｃｈｃｏｒｒｅｓｐｏｎｄｓｔｏｔｈｅｓｔｒｅｓｓｄｉｓｔｒｉｂｕｔｉｏｎｏｆＳＵ８ｐｈｏｔｏｒｅｓｉｓｔ．Ｓｔｒａｉｎ ｄｉｓｔｒｉｂｕｔｉｏｎｉｓａｃｑｕｉｒｅｄｂｙｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇｉｎｔｅｒｆｅｒｏｍｅｔｅｒｉｍａｇｅｓｗｈｉｃｈａｒｅｒｅｃｏｒｄｅｄｂｅｆｏｒｅａｎｄａｆｔｅｒｌｏａｄｉｎｇｏｎｔｈｅ ｔｅｓｔｅｄｐｈｏｔｏｒｅｓｉｓｔ．ＴｈｅｓｉｍｕｌａｔｉｏｎｒｅｓｕｌｔｏｆｔｈｅｓａｍｅｐｈｏｔｏｒｅｓｉｓｔｉｓｏｂｔａｉｎｅｄｂｙｕｓｉｎｇｔｈｅＡＮＳＹＳｆｉｎｉｔｅｅｌｅｍｅｎｔ ａｎａｌｙｓｉｓｓｏｆｔｗａｒｅ．Ｔｈｅｓｈｅａｒｏｇｒａｐｈｙｍｅａ