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模拟电子技术课件(邱健)第五章 场效应管放大电路2.pptxVIP

模拟电子技术课件(邱健)第五章 场效应管放大电路2.pptx

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5 场效应管放大电路5.1 金属-氧化物-半导体(MOS)场效应管5.2 MOSFET放大电路5.3 结型场效应管(JFET)*5.4 砷化镓金属-半导体场效应管5.5 各种放大器件电路性能比较N沟道耗尽型:场效应管没有加偏置电压时,就有导电沟道存在增强型增强型:场效应管没有加偏置电压时,没有导电沟道N沟道JFETN沟道结型FET场效应管MOSFET(IGFET)绝缘栅型场效应管的分类:P沟道耗尽型P沟道(耗尽型)P沟道NMOS 增强型NMOS 耗尽型N沟道JFETPMOS 增强型PMOS 耗尽型P沟道JFET5.1 金属-氧化物-半导体(MOS)场效应管5.1.1 N沟道增强型MOSFET5.1.2 N沟道耗尽型MOSFET5.1.3 P沟道MOSFET5.1.4 沟道长度调制效应5.1.5 MOSFET的主要参数5.1.1 N沟道增强型MOSFETL :沟道长度W :沟道宽度tox :绝缘层厚度1. 结构(N沟道)通常 W L 符号5.1.1 N沟道增强型MOSFET1. 结构(N沟道)剖面图5.1.1 N沟道增强型MOSFET1. 结构(N沟道)5.1.1 N沟道增强型MOSFET2. 工作原理(1)vGS对沟道的控制作用5.1.1 N沟道增强型MOSFET2. 工作原理(1)vGS对沟道的控制作用当vGS≤0时 无导电沟道, d、s间加电压时,也无电流产生。当0vGS VT 时 产生电场,但未形成导电沟道(感生沟道),d、s间加电压后,没有电流产生。当vGS VT 时 在电场作用下产生导电沟道,d、s间加电压后,将有电流产生。 vGS越大,导电沟道越厚VT 称为开启电压5.1.1 N沟道增强型MOSFET2. 工作原理(1)vGS对沟道的控制作用当vGS VT 时 在电场作用下产生导电沟道,d、s间加电压后,将有电流产生。 vGS越大,导电沟道越厚 VT 称为N沟道增强型MOSFET开启电压5.1.1 N沟道增强型MOSFET2. 工作原理(2)vDS对沟道的控制作用2. 工作原理(2)vDS对沟道的控制作用当vGS一定(vGS VT )时,?沟道电位梯度?vDS??ID??靠近漏极d处的电位升高?电场强度减小?沟道变薄整个沟道呈楔形分布A2. 工作原理(2)vDS对沟道的控制作用当vGS一定(vGS VT )时,?沟道电位梯度?vDS??ID? 当vDS增加到使vGD=VT 时,在紧靠漏极处出现预夹断。在预夹断处:VGD=VGS-VDS =VTN2. 工作原理(2)vDS对沟道的控制作用?夹断区延长预夹断后,vDS??沟道电阻??ID基本不变2. 工作原理(3) vDS和vGS同时作用时 vDS一定,vGS变化时 给定一个vGS ,就有一条不同的 iD – vDS 曲线。3. V-I 特性曲线及大信号特性方程(1)输出特性及大信号特性方程① 截止区当vGS<VT时,导电沟道尚未形成,iD=0,为截止工作状态。3. V-I 特性曲线及大信号特性方程(1)输出特性及大信号特性方程② 可变电阻区 vDS≤(vGS-VT)由于vDS较小,可近似为rdso是一个受vGS控制的可变电阻 本征电导因子3. V-I 特性曲线及大信号特性方程(1)输出特性及大信号特性方程② 可变电阻区 其中?n :反型层中电子迁移率Cox :栅极(与衬底间)氧化层单位面积电容Kn为电导常数,单位:mA/V2是vGS=2VT时的iD 3. V-I 特性曲线及大信号特性方程(1)输出特性及大信号特性方程③ 饱和区(恒流区又称放大区)vGS VT ,且vDS≥(vGS-VT)V-I 特性:(N沟道增强型)3. V-I 特性曲线及大信号特性方程(2)转移特性5.1.2 N沟道耗尽型MOSFET1. 结构和工作原理(N沟道)二氧化硅绝缘层中掺有大量的正离子 可以在正或负的栅源电压下工作,而且基本上无栅流是vGS=0时的iD 5.1.2 N沟道耗尽型MOSFET2. V-I 特性曲线及大信号特性方程 (N沟道耗尽型)VP为耗尽型MOS管的夹断电压,且为负值。 5.1.3 P沟道MOSFET# 衬底是什么类型的半导体材料?# 哪个符号是增强型的?# 在增强型的P沟道MOSFET 中,vGS应加什么极性的电压才能工作在饱和区(线性放大区)?5.1.3 P沟道MOSFET电流均以流入漏极的方向为正!# 是增强型还是耗尽型特性曲线?# 耗尽型特性曲线是怎样的?vGS加什么极性的电压能使管子工作在饱和区(线性放大区)?5.1.4 沟道长度调制效应实际上饱和区的曲线并不是平坦的?沟道长度调制参数修正后L的单位为?mVA称为厄雷(Early)电压当不考虑沟道调制效应时,?=0,曲线是平坦的。 5.1.5 MOSFE

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