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專利評估與專利鑑價 車慧中 冠亞智財股份有限公司 Tel:03-5910302, Fax:03-5910306 Email: imcharlie@ 講師簡歷 現職 冠亞智財(股)公司　副總經理 經歷 工研院產業學院/專利分析師菁英班/模組負責人 工研院技轉中心/專案經理、專利工程師 中國機械工程學會/正級永久會員 講座 台灣大學生技中心/智慧財產權保護、專利鑑價、侵權鑑定 台科大產學中心/專利檢索 逢甲大學育成中心/專利地圖 高雄大學育成中心/專利分析 南科育成中心/專利檢索與地圖 南台灣創新園區/專利檢索與分析 國家衛生研究院/專利地圖 工研院/專利地圖全方位大攻略 金屬中心/專利地圖與迴避設計 中國生產力中心/研發經理人班/專利地圖 亞太智慧財產權基金會/專利地圖 台灣技術交易市場TWTM/專利地圖 自強基金會/侵權鑑定與迴避設計 中華民國工業總會/專利檢索與分析 機器公會/專利檢索與分析 內容 專利評估與專利鑑價之應用 專利評估準則 專利評估實例解析 專利 vs 技術 專利價格的法律基礎 鑑價程序及做法 鑑價模型 鑑價案例 鑑價案例剖析與研究 結論與建議 專利評估與專利鑑價之應用 專利授權 專利交易/專利讓與(買/賣) 侵權賠償金(Licensing fee) 權利金(Royalty) 技術入股 新創事業 現金增資 企業融資信用額度 併購、換股、資金流通 專利評估方法 評估準則 Patentability Related to prior arts 35 USC 102, 35 USC 103 Defensibility Related to prior arts’ claims Claim construction Infringement support Enforceable or not to an infringement act Offensive Legal status/renewal fee payment Previous license Easy to design around or not 具圓弧狀擴散單元的背光源裝置 Example illustrated BackLight Structure Diffuser Lens Diffuser Light guide plate Reflector Light unit Light source Light reflector Patentee vs Client Patentee 1 patent of 4 families TW US CN DE The average illumination of the backlight device is increased. The invention is fabricated easily. Client Why this patent? 是否只是別人的再發明? 有另外的競爭同業嗎? Biblography Backlight source device with circular arc diffusion units Patent No.: 6,074,XXX Issued: June XX, 2000 Inventors: Chao-Ching, Hsu (Tianan, TW); Gwo-Juh, Tzeng (Taichung, TW) Assignee: Industrial Technology Research Institute (Hsinchu, TW) Appl. No.: 233XXX Filed: January XX, 1999 Characteristic drawings 法律狀態 年費繳納正常 先前無授權紀錄 專利審查過程正常 Claim 1 1. A backlight source device with circular arc diffusion units comprising: a transparent guide plate with a plurality of circular arc diffusion units on the front or rear surface thereof, each circular arc diffusion unit having a reflecting surface; a diffusion piece above said guide plate; a reflecting piece below said guide plate; and a lateral light source.  Claim Construction Analysis