稀土镝、钕、镧掺杂纳米SnO,2薄膜的特性.pdfVIP

稀土镝、钕、镧掺杂纳米SnO：薄膜特性研究 摘 要 采用真空热蒸发法在玻璃衬底制备纳米Sn薄膜，在空气或氧气气氛下对 薄膜进行氧化、热处理，获得性能良好的Sn02纳米多晶薄膜。采用同样方法 制备稀土金属镝(钕、镧)掺杂纳米sn02薄膜。经X射线衍射仪、场发射扫 描电子显微镜、分光光度计等方法对薄膜进行各种性能测试，研究不同制备工 艺、稀土掺杂含量、及热处理温度和时间对Sn02薄膜的结构特性、晶粒尺寸、 表面形貌、电学、光学、气敏特性影响。 处理后，’可获得性能良好的Sn02多晶薄膜。薄膜沿(110)晶向择优生长，平均 钕含量为7at％时，可获得表面和结构良好的SnO。薄膜，平均晶粒尺寸约 平均晶粒尺寸约42．83nm。所有制备的SnO。薄膜均呈N型，电阻很高。场发 射扫描电镜分析给出， SnO。多晶薄膜表面均呈颗粒孔状结构，表面较均匀平 整，颗粒大小较均匀约在O．3—0．8pm，随热处理温度升高，颗粒聚集程度增 强。 经稀土镝(钕、镧)掺杂后， 内)均有不同程度的降低。纯Sn02薄膜的光学带隙宽度3．07ev，随掺钕、镝、 镧含量增加，薄膜的光学带隙呈递减趋势，光学带隙在2．62．3．07ev范围内。 可改善Sn02薄膜对丙酮的灵敏度。 关