AZO薄膜沉积于软性基板之光电特性研究Studyof-义守大学.PDF

義守大學電子工程學系 專題 製作計劃書 AZO 薄膜沉積於軟性基板之光電特性研究 Study of optoelectronic properties for Al doped ZnO to deposit on flexible substrate 專題生 郭怜 妤 洪廷豪 指導老師 ：林彥勝 博士 中 華 民 國 104 年 6 月 摘要 本研究主要是探討AZO 薄膜沉積於軟性基板後之光電特性，藉由設定緩衝 層厚度變化，並於中間層置入固定 Ag含量以提升其導電性，最後在總厚度固定 情況下研究薄膜光電特性。研究中，使用射頻磁控濺鍍機 (RF magnetron sputtering) 在塑膠基板上分別沉積ZnO 、nano-Ag 、AZO 三種薄膜。藉由緩衝層厚度變化設 計來補強結構 ，為提升導電性再將奈米 Ag濺鍍於此表面，最後蓋上 AZO覆蓋 層。藉由原子力顯微鏡(AFM)分析濺鍍完緩衝層之的表面及量測其平均粗糙度 (RMS) ，並以場發式掃描電子顯微鏡(FESEM)對薄膜結構緻密性及表面進行觀察 量測，最後再藉由霍爾效應量測儀、 UV-VIS 光譜儀，對薄膜進行光學性質及電 性等分析。 II 目錄 摘要 II 目錄 III 圖目錄 IV 第一章 .緒論 1 1-1前言 1 1-2研究動機 2 1-3研究問題 3 第二章 理論基礎與文獻回顧. 4 2-1透明導電薄膜之基礎原理4 2-3 AZO 薄膜之導電特性6 2-4濺鍍 (sputtering)原理 7 第三章研究方法與過程. 9 3-1研究流程 9 3-2 製程設備 11 3-2.1射頻磁控濺鍍機 11 3-3微結構分析儀器 13 3-3.1 掃描式電子顯微鏡 13 3-3.2 原子力顯微鏡 15 3-4 光電特性量測儀器 16 3-4.1 霍爾效應量測儀 16 3-4.2 UV-VIS 光譜儀 18 第四章 .預期結果20 參考文獻21 III 圖目錄 圖 1-1 PC 基板之AFM俯視圖 3 圖 1-2 PC 基板之AFM 3D圖 3 圖 2-1 ITO 薄膜在不同波長下之光學特性4 圖 2-2 薄膜成長示意圖8 圖 3- 1射頻磁控濺鍍機（ a ）儀器結構示意圖及（b ）實照圖12 圖 3-2掃描式電子顯微鏡實照圖 14 圖 3-4霍爾量測系統（a ）原理圖、（b ）結構示意圖及（c ）實照圖17 圖 3-5 UV-VIS 光譜儀儀器（a ）示意圖及（b ）實照圖19 IV 第一章 .緒論 1-1前言 由於近年來光電半導體應用的快速發展，因而其相關研究不斷的被提出，透 明導電膜更是一項不可或缺的光電材料，其特性為在可見光範圍內具有高穿透及 良好的導電性，而運用也相當地廣泛 ，典型的應用例如太陽能電池、發光二極體、 觸控面板、平面顯示器等 。