TEM样品制备技术-新金属材料国家重点试验室.PDFVIP

TEM样品制备技术 及相关仪器的使用 中国科学院物理研究所 王凤莲 2010.12.6 透射电子显微镜样品制备 前言 一 平面样品制备 二 截面样品制备 三 纳米量级（粉末）样品制备 四 不同性质材料的TEM样品制备 五 离子减薄样品及相关仪器的使用 2 前 言  TEM样品制备在电子显微学研究中起着非常重要的作用。  制备方法: 化学减薄；电解双喷；解理；超薄切片；粉 碎研磨；聚焦离子束；机械减薄；离子减薄，这些方法 都能制备出较好的薄膜样品。  新材料的发展对样品制备技术提出了更高的要求， 制 备时间短，可观察的面积更大，薄区的厚度更薄，并能 高度局域减薄。  TEM样品类型 (本室研究课题所涉及的材料) 块状：用于普通微结构研究 平面：用于薄膜和表面附近微结构研究 横截面样品：薄膜和界面的微结构研究 纳米材料：粉末，纤维，纳米量级的材料 3 TEM样品制备工艺示意图 1. 切割 2. 平面磨 500 μm 2.5mm 70 μm 3mm 3. 钉薄 ( 凹坑) 4. 离子减薄 离子束 5 μm 离子束 4 一 平面样品制备 1. 切割 2. 平面磨 3. 钉薄 (凹坑) 4. 厚度的测量 5. 粘环 (样品支架) 5 平面样品示意图 平面：表面观察，表面的均匀度，缺陷， 相分凝等。 生长面 截面：生长形态信 息，各层的原子结 构，界面结构，缺 陷等。 衬底 6 1. 切割样品 方法：超声切割、线锯、低速锯、冲 压器获得Ф3mm圆片，也可以用其它方法， 把样品切成小块，无论是长方形还是方形 对角线不超过3mm，长边2.5mm即可。 500 μm 2.