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LED材料特性及其TEM分析技术
LED材料特性及其TEM分析技術
一、發光二極體的發展與沿革
1955年美國無線電公司(Radio Corporation of America)首次發
砷化鎵(GaAs)及其他半導體合金的紅外線放射作用;1962年通用
電氣公司開發出第一種實際應用的可見光發光二極體(Light
Emitting Diode, LED) ;1968年HP
有單調的暗紅色指示燈;直到1992年由Nichia突破技術障礙 ,
出藍光LED ,至此全彩化LED逐得以實現。而LED
期的指示燈、顯示板等;發展至今隨 可見其產品,如:照明 、
光源 、廣告招牌、交通號誌 、手電筒、相機閃光燈、裝飾燈等等。
尤其隨著白光LED的出現,更在照明的舞台上大放異彩。與
明系統相較之下 ,LED提供了體積小 、反應快、壽命長 、不易衰
減 、可全彩發光(含不可見光) 、設計容易 、低電壓電流 、
低 、熱輻射小、量產容易、環保等優勢 。
LED 是利用電能轉化為光能的方式發光。發光二極體晶粒的組成
材料是半導體材料 ,這些半導體材料會預先摻雜三價或五價雜質形
成P型或N型半導體架構 。參雜三價雜質的材料會含有大量 電的
電洞 ,稱為P 型半導體;另一種因參雜五價雜質故含有大量帶負
的電子 ,稱為N 型半導體。然而P 型與N 型半導體相接 的
作P-N 接面 ,如圖1示意圖顯示,在發光二極體的正負極
電壓 ,當電流通過時P-N接面時 ,
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會使得電子與電洞結合,結合的能量便以光的形式發
出,依使用材料的能階高低決定發光的波長 ,因此就會發出
不同顏色的光[註1] 。
圖1. LED發光的主要原理 :當PN接面加入順向偏壓時 ,P型區的多數載子電洞
會往N型區移動 ,而N型區的多數載子電子則往P型區移動 ,最後電子與電洞
會在P-N接面之空乏區結合,此時因電子由傳導帶移轉至價電帶後喪失能階 ,
同時以光子的模式釋放出能量而產生光。
二、LED材料的選擇
大多數LED都屬於三五族半導體材料(三族有Al 、Ga 、In ;
五族有As 、N 、P等) ,依照所需不同顏色光波段 ,搭配成二
元至四元材料 。近年來因藍光LED在顯示器及照明上可以達
到高效率高亮度以及全彩化(搭配螢光粉可成白光) ,所以目
前LED產業有 部分很重要的研發,多落在藍光LED
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上 ,而可發藍光的的材料主要的選擇 ,即是我們通見的氮
化鎵(GaN)材料 。本文中亦以GaN為例 ,簡介其製程以及所需
之分析方式。
GaN藍光LED目前大宗的製程方法 ,是以磊晶方式(例如:有
機金屬化學氣相沉積 ,metal organic chemical vapor deposition,
MOCVD)為主流 。其作法是在基板上(例如:藍寶石基板,
sapphire)上成長P型及N型半導體,而P-N接面處會成長 多層
結構的量子井(Multiple Quantum Well, MQW) ,其功能係在空
間上可以限制電子電洞的行為,使之不易脫離量子井的拘束
,進而有較高機率結合並相碰致光,提高LED發光效率 ,圖2
為 般量子井拘束電子電洞示意圖 。
圖2 量子井的空間及限制電子電洞示意圖
般而言在LED元件 ,量子井的材料設計上 ,亦為GaN
參雜不同元素製作成多層雙異質結構 。因其材料的選擇以及結
構 ,皆會直接影響到
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其致光的品質和效率 ,因此目前大量的研發比重也落在這
個部分 。在製程上我們關心的要點有二 :第一,準確地參
雜適當比例的元素 ,以及磊晶堆疊出理想的層厚 ,將直接反
應出致光的性質 ;第二,GaN材料磊晶成長至基板上時 ,由
兩種材料不同的晶格常數以及熱膨脹係數 ,會產生失配的現
象,並導入不同的缺陷(刃差排、螺旋差排)在GaN磊晶層 。
差排活動從基板往上生長 ,即會破壞整個磊晶層以及量子井
結構 ,嚴重影響發光效率 。圖
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