LPCVD氮化硅薄膜室温高强度可见光发射.pdf

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2018-11-27 发布于天津
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LPCVD氮化硅薄膜室温高强度可见光发射

20 1 Vol . 2 0 , No . 1 1 99 9 3 CHINE EJOU RNAL OF LUM INE CENCE Mar. , 1999 LPCVD氮化硅薄膜室温高强度可见光发射* 刘渝珍　石万全　刘世祥　姚德成　刘金龙 a) a) a) a) 韩一琴　赵玲莉　孙宝银　叶甜春　陈梦真 ( , 100039) a) ( , 100010) 5. 0eV , LPCVD , 2. 97, 2.77, 2. 55, 2. 32, 2. 101. 90 , eV PL , . LPCVD, , 1　引　　言 , + . , N [ 1] , ( LPCVD) . , 5. 0eV , LPCVD , . , . 2　实　　验 110 ( 100) , LPCVD cm p . 41950- / . 110- 2 . LPCVD L H Z Pa 4 ( 5% ) 3 , 55 , 860 , 860 iH NH Pa 3+ 20. Nd YAG ( 265nm) , E CALAB5 X- ray , D/ max-RB X , Nicolet Magna IR750, , ( PL) . 3　实验结果 X . ( IR) 7001055cm- 1, Herman J. [ 2] tein LPCVD IR . - 1 [ 3] - 1 3 4940 , 1045 i N cm cm [ 4] - 1 [ 5] ( 2) - - , 486. 65 x , iO x i O i cm N iO * 1998530 38 20 i-O- i . IR N-H - 1 ( 1175cm ) , [ 5] . XP , / (