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电子信息工程软刻蚀方法复制仿生微纳结构参考
毕业设计（论文）
课题 软刻蚀方法复制仿生微纳结构
专业年级 2005级电子科学与技术 学 号 姓 名 指导教师 评 阅 人
二○○九年六月
计算机及信息工程学院（常州）
河 海 大 学
本科毕业设计（论文）任务书
（理 工 科 类）
Ⅰ、毕业设计（论文）题目：
软刻蚀方法复制仿生微纳结构
Ⅱ、毕业设计（论文）工作内容（从综合运用知识、研究方案的设计、研究方法和手段的运用、应用文献资料、数据分析处理、图纸质量、技术或观点创新等方面详细说明）：
当前微电子加工技术已经进入纳米时代，随着特征尺寸的进一步缩写，下一代光刻技术急需解决。纳米压印技术(nanoimprint)极有可能成为下一代光刻技术，因为它具有工艺简单直接、成本低、效率高的优点。由于它是基于物理变形复制图案，不受光学衍射等因素影响，它具有较高的分辨率，可加工低于10纳米的图案。
软刻蚀作为广义纳米压印技术的一种，具有柔性、易加工三维结构、生物相容性等优点，软刻蚀技术是一种集体技术的集体称呼，它包括微接触印刷、微模塑复制等，它们的共同点都是用到柔软的印章，常用的是PDMS印章。本课题拟提出用软刻蚀的方法批量复制仿生的微纳结构，该结构表面具有一定的疏水特性。
通过本课题的设计，可认识软刻蚀技术中PDMS印章的制备，综合锻炼学生多学科的交叉分析能力。具体工作内容如下：：
1、熟悉课题研究背景，对相关纳米压印和软刻蚀资料进行分析整理。
2、对软刻蚀制备印章的方法熟练掌握。
3、购买实验材料，准备进行复制实验。
4、进行实验，从干荷叶结构上复制其表面的微纳米结构。
5、对印章和复制品的表面结构分别进行原子力显微镜进行测量。
6、对实验结果进行分析总结。
7、给出论文英文摘要、专业英文资料翻译。
8、要求用WORD 排版、打印毕业论文。
Ⅲ、进度安排：
（1）2008年11月―2009年1月：查阅资料，英文翻译，熟悉课题背景
（2）2009年2月―2009年3月：进行相关资料收集，购买实验材料
（3）2009年3月―2009年4月：进行实验从干荷叶上复制其表面的微纳米结构。
（4）2009年4月―2009年5月：对印章和复制品的表面结构分别进行原子力显微镜进行测量，对实验结果进行分析总结。
（5）2009年5月―2009年6月：撰写毕业设计论文、答辩
Ⅳ、主要参考资料：
[1]崔铮，微纳米加工技术及其应用综述，物理，2006，35(1)，34-39.
[2]Moore G.E. Cramming more components onto integrated circuits, Electronic[19]Lee G.-B., Chen S.-H., Huang G.-R., et al. Microfabricated plastic chips by hot embossing methods and their applications for DNA separation and detection, Sensors and Actuators B, 2001, 75，142-
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