2011-2012研究生薄膜物理与工艺期末试卷.docVIP

试卷编号： ( )卷 课程名称： 薄膜物理与工艺 适用班级： 材料学院11级硕士研究生 姓名： 杨超普 学号： 405705211029 班级： 2011级 专业： 材料物理与化学 学院： 材料科学与工程学院 系别： 考试日期： 题号 一 二 三 四 五 六 七 八 九 十 总分 累分人 签名 题分 100 100 得分 考生注意事项：1、本试卷共 2 页 (不含答题部分)，请查看试卷中是否有缺页或破损。如有立即举手报告以便更换。考试为堂外答题，考生在规定时间内将答卷交任课教师。 2、考试结束后，考生不得将试卷、答题纸和草稿纸带出考场。 论 文 (共100分) 得分 评阅人 根据本课程所学内容，选取自己感兴趣的，撰写一篇2500字以上的综述性论文，论文题目自拟。通过广泛查阅国内外相关论文文献，写一篇综述性科技论文，阐述自己对该方向的认识。 要求： 针对性强，严格围绕所拟论题； 论文除正文外还应包含中文摘要及关键词； 参考文献部分须有10篇最新的文献（包括5篇外文）； 论文格式严谨； 论文字数不少于2500字。 论文格式如下： 南昌大学研究生2011～2012学年第二学期期末考试试卷 论文格式： 中 文 标 题 (三号加粗) 姓名： 学号： 班级： 专业：(四号加粗) (以下均为小四号字) 摘 要：纳米科学技术…… 关键词：纳米线 正文部分： 1. 引言 ……………纳米材料【1】，…………………纳米技术【2】。 1. 1. 1. 1. 1. … 2. 2. 1. 2. 1. 1 … 参考文献： [1] 张立德，牟季美，纳米材料和纳米结构，科学出版社，2001. [2] S. C. Tsang, Y. K. Chen, P. J. Harris, Nature 1994, 372, 159. … 注：1、中文文字使用“宋体”，英文、数字、希腊字母等使用“Times New Roman”； 2、注意字的大小，每部分的标题加粗； 3、用A4纸单面打印，保留页面左边的装订空白页。 （页数不够请自行添加） 薄膜制备的物理方法概述 摘要 关键词 引言 随着世界经济和科学技术的迅速发展，特别是微电子和信息产业近年来的突飞猛进，担当着 微电子器件、大规模集成电路主角的薄膜制备技术愈发显示出其重要性和突出地位。作为兴起于20世纪60年代，新理论和高技术高度结晶的产物——薄膜材料及相关薄膜器件，已成为电子、信息、传感器、光学、太阳能等技术的核心基础。 采用一定方法、手段及设备，使处于某种状态的一种或几种物质（原材料)的基团以物理或化学方式附着于衬底材料表面，在衬底材料表面形成一层新的物质，即薄膜。这里所采用的方法、手段及设备就称为薄膜制备。自从1852年W.Grove发现辉光放电的溅射沉积薄膜方法至今，随着真空技术、低温技术、等离子技术、自动控制分析技术的迅猛发展，相继产生了各种制备薄膜的方法和技术。通过这些特殊的薄膜制备方法可以获得常规传统手段无法获得的薄膜材料，如纳米迭层薄膜、梯度薄膜、非晶态合金薄膜以及各种异质结、超晶格、量子阱。因此薄膜材料的制备方法和制备设备的研究越来越受到大家的重视。 纵观各种薄膜材料制备方法，按物理、化学角度来分，可以分为物理方法成膜和化学方法成膜。其中薄膜制备的物理方法主要包括：真空蒸发、溅射、离子束和离子助、外延膜沉积技术等；薄膜制备的化学方法主要有：热生长、化学气相沉积、电镀、化学镀、阳极反应沉积法、LB技术等。由于这两大类制备方法都包含内容较多，且二者相比较薄膜制备的物理方法的应用更为广泛，所以接下来着重介绍几种常用物理成膜法。 2 真空蒸发镀膜 2.1 真空蒸发镀膜概述 利用蒸发、溅射沉积或复合的技术，不涉及到化学反应,成膜过程基本是一个物理过程而完成薄膜生长过程的技术,称为物理方法成膜主要代表为：真空蒸发镀膜、溅射镀膜、离子束和离子助成膜以及外延膜沉积技术。 真空蒸发沉积薄膜具有简单便利、操作容易、成膜速度快、效率高等特点，是薄膜制备中最为广泛使用的技术。真空室内加热的固体材料被蒸发汽化或升华后，凝结沉积到一定温度的衬底材料表面。形成薄膜经历三个过程： 首先在蒸发或升华过程中，通过一定加热方式使被蒸发材料受热蒸发或升华，由固态或液态变成气态。然后在输运到衬底过程中，气态原子或分子在真空状态及一定蒸气压条件下由蒸发源输运到衬底。最后在吸附、成核与生长过程中，通过粒子对衬底表面的碰撞，衬底表面