[教育]光功能高分子.pptVIP

一、光刻工艺 3 光致抗蚀剂 光刻胶（photoresist）：又称光致抗蚀剂，由感光树脂、光敏剂和溶剂三部分组成的对光敏感的混合液体。 光刻即光刻腐蚀 1、原理 光刻工艺是利用感光性树脂材料作为抗蚀涂层。这类感光树脂在光照（主要是紫外光）时，短时间内即能发生化学反应，使得这类材料的溶解性、熔融性或亲和性在曝光后发生明显的变化，利用这些性能在曝光前后发生的明显差异，只要控制光照的区域就可得到所需要的几何图形保护层。 2、光刻工艺过程 光刻过程示意图 1. 光致抗蚀剂层 2. 基材 3. 掩膜 衬底硅 光刻SiO2膜 光致抗蚀剂 掩模版 衬底硅 紫外光 涂光致抗蚀剂 曝光 显影 衬底硅 腐蚀 衬底硅 去胶 衬底硅 SiO2 按照化学反应原理和显影原理，光致抗蚀剂可分为正性和负性两大类。 正性：光照使光致抗蚀剂发生光分解或其他反应 负性：光聚合或光交联反应 按曝光光源分类 紫外线致抗蚀剂、远紫外线致抗蚀剂、电子束光致抗蚀剂、x射线光致抗蚀剂、离子束光致抗蚀剂。 二、光致抗蚀剂 对光致抗蚀剂的一般要求： 容易形成均匀的薄膜； 对光或射线的灵敏度高； 形成图像的清晰度或分辨率高； 显影时应该除去的部分能迅速的溶解掉； 作为图像的保护膜应具有一定的牢度和强度； 储存稳定性好； 具有与细微光刻要求相适应的化学和物理特征。 三、负性光致抗蚀剂（负性胶） 1. 聚乙烯醇肉桂酸酯 光敏剂：N-甲基-2-苯甲酰基-β-萘并噻唑啉 柯达公司发明 聚乙烯醇+肉桂酰氯 性能优良，柔韧性、附着力需改进 2. 环化橡胶 （顺式聚异戊二烯） 催化剂：对甲苯磺酸，溶剂：甲苯 环化产物：分子量为60000，不饱和度6－8mol/g 1）环化反应同时发生聚合物降解反应，降低聚合物的分子量,有利于配制浓度较大的聚合物溶液，最终能获得符合成像要求的胶膜厚度. 2）环化反应后，聚合物中双键数目减少，不易产生自身交联，便于储存和操作，质量稳定。 环化的作用 光敏剂 双叠氮类化合物，如：2，6-双（4-二叠氮苯亚甲基）环己酮 双亚氮化合物能与环化橡胶的双键快速反应交联 双亚氮化合物 3. 不饱和聚酯 分辨力高 溶解性好 耐腐蚀，粘附性好 广泛用于硅、二氧化硅、铜、石英的刻蚀 四、正性光致抗蚀剂（正性光刻胶） 光敏剂为邻叠氮醌混合物，酚醛树脂。曝光后发生光化学反应，使抗蚀剂从油溶性转为水溶性，碱溶液显影，光照部分溶解 5 光致变色高分子材料 光致变色聚合物 在光的作用下能可逆地发生颜色变化的聚合物。 1. 概述 材料 光 化学结构可逆变化 最大吸收波长改变 颜色变化 注意！不可逆过程不属于光致变色 对光致变色材料的研究始于20世纪初，功能性染料在光的照射下有颜色或颜色变化，停止光照回复，卤化银 功能性光致变色染料为小分子，不便于制造器件 将光致变色的染料引入到高分子的主链或侧链中，或者共混，开发光致变色高分材料 应用前景诱人：调光窗、护目镜、防伪材料、伪装隐蔽等 光致变色原理 无色或浅色变为深色 深色变为无色或浅色 正光致变色 负光致变色 光致变色原理 光化学过程 光物理过程 互变异构、顺反异构、开环反应、生成离子等，偶氮苯 基态 吸光 跃迁 激发单线态 激发三线态 吸收光谱变化，光致变色 2. 光致变色聚合物 小分子 高聚物 共混 共聚、接枝 含硫卡巴腙络合物的光致变色聚合物 含偶氮苯的光致变色高分子 含螺苯并吡喃结构的光致变色高分子 氧化还原型光致变色聚合物 含硫卡巴腙络合物的光致变色聚合物 硫卡巴腙 λmax=490nm λmax=580nm 橘红色 暗棕色或紫色 含偶氮苯的光致变色高分子 稳定 不稳定 λmax=350nm λmax=310nm 负光致变色 吸收波长较短 变色前后的吸收光谱变化较小 热稳定性差 具有明显的光偏振效应，用一束偏振光就可通过双折射将信息写入、读出、擦除、重写 作为一种新型光信息存储材料， 有超高密度存储、非破坏性读出特性， 较短的开关时间， 是很有发展前途的光学记录介质。 * 1954年，美国柯达公司的Minsk等人开发出光功能高分子聚乙烯醇肉桂酸酯，并成功应用于印刷制版 应用领域已从电子、印刷、精细化工等领域扩大到塑料、纤维、医疗、生化和农业等方面，发展之势方兴未艾。 概述 光敏涂料 光致抗蚀剂 光致变色高分子材料 主要内容 光导电高分子材料 1 概述 光功能高分子：也称感光性高分子，指在吸收了光能后，能在分子内或分子间产生化学、物理变化的一类功能高分子材料。这种变化发生后，材料将输出其特有的功能。 1、光功能高分子材料及其分类 按作用机理 光物理材料 光化学材料 光导电材料： 光电转换材料 光能储存材料 光记录材料 光致变色材料 光致抗蚀材料 光检测元件、光电