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聚变第一壁材料的研究进展与HT-7U第一壁材料研究 陈俊凌 2001年4月18日 面对等离子体材料 1970’s后期，PLT装置第一次使用石墨限制器 起因：PLT采用NBI辅助加热系统； 限制器：起初用W为限制器，但在高功率和低的等离子体密度情形下，获得了很高的边缘等离子体温度和功率密度，引发W的溅射，辐射损失大； 改进：用石墨限制器替代了W限制器，结果获得了巨大成功。主要原因在于石墨材料属于低Z材料，辐射损失小；表面过热时只会升华，而不熔化。 从此，炭材料成为核聚变装置中限制器和偏滤器设计时优先考虑的材料 到80年代中期许多托卡马克装置在运行时都采用石墨限制器或偏滤器板 与此同时，实验室中针对石墨材料的测试和模拟开始广泛进行，旨在阐明石墨与氢等离子体的化学反应 炭的化学腐蚀和RES行为； 中子辐照下炭材料的一些性能和结构变化； 炭与氢的同位素的共沉积行为； 目前炭材料仍然是世界范围内大型托卡马克的主要面对等离子体材料 除了作为限制器和偏滤器，炭材料还在扩大其使用范围，如覆盖整个真空壁 象TFTR，DIII-D，JT-60U，Tore Supra，ASDEX-U（现在在发展高Z的W）等采用全炭壁。 低化学溅射，抗RES，高热通量炭基复合材料成为目前的研究重点 炭材料内部改性（添加B，Si，Ti，V，Zr，Ni，W或其炭化物等）； 表面涂层（B4C，SiC，Ti