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有机化学6卤代烃.ppt

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有机化学6卤代烃

1.单分子消除(E1) 反应是分两步进行的,碳正离子的生成一步最慢,是速度步骤。 反应中生成的碳正离子,也可以和亲核试剂发生加成反应,或重排为更稳定的碳正离子。 v = k [(CH3)3CBr] 反应机理示意图: 碱接近C+ 过渡态 烯烃 E1反应特点: 一级反应: v = k[(CH3)3C—Br] 决速步骤是生成碳正离子(与SN1相似) 常有重排产物 与SN1反应为竞争反应 E1与SN1的竞争反应 E1与SN1反应的活性相同,R-X: 3°>2°>1° 原因:碳正离子的稳定性;烯烃的稳定性 α-C所连的烃基越大,越有利于消除反应 p187 原因: SN1反应,中心碳由sp3 →sp2 →sp3,烃基体积大,分子张力较C+离子增加; E1反应,中心碳由sp3 →sp2 ,产物为烯烃,分子张力不会增加;另外, α-C烃基体积大,碱进攻β-H的几率增大,有利于E1反应。 2.双分子消除(E2) 伯卤代烷与碱作用,反应是经过一个过渡状态,一步完成的。 E2反应特点: 动力学上表现为二级反应,反应速度与反应物浓度、试剂浓度都成正比。 无中间体的协同反应,无重排产物 与SN2反应为竞争反应 反应机理示意图: 碱接近β- H 过渡态 烯烃 E2与SN2反应的区别: 伯卤代烷一般发生SN2反应; β-C上取代基增加时,消除几率增加; 2o卤代烷E2反应优于SN2反应; 3o卤代烷易发生单分子反应;若有强碱存在,主要E2。 P 188:表6-2 3.消除反应的取向 两种取向规则: 查依采夫规则:生成双键碳上取代基较多的烯烃; 霍夫曼规则:生成双键碳上取代基较少的烯烃。 消除反应主要遵循查依采夫规则 稳定性较高 根本原因:烯烃的稳定性(超共轭效应) 稳定性较低 消除反应实例: 共轭效应的存在使得烯烃的稳定性增加。 特殊情况下的消除—霍夫曼消除 总结: β-H空间位阻大,札依采夫产物少,霍夫曼产物多; 碱的体积大,札依采夫产物少,霍夫曼产物多。 取代消除互相竞争 伯卤代烷在强亲核试剂中一般SN2反应,强碱E2; 叔卤代烷主要按单分子历程进行; 仲卤代烷依具体情况定。 七、重要的代表物 自学 E2反应的立体化学 下册 p 216 1. 顺式消除与反式消除 顺式消除:消除的原子或原子团位于C-Cσ键的同侧;从构象上看是重叠式; E2反应多数是反式消除,即被消去的两个基团是处于反式共平面位置,是交叉式构象。 B: 反式消除容易的原因: ① 共平面消除符合π 键形成的要求。 ② 反式时,B与L距离大,L对B斥力小,使B易接近β-H。 ③ 反式构象比顺式构象稳定。 2. 卤代烃消除卤化氢反应的立体化学 1,2-二苯基-1-溴丙烷的两对对映体的消除反应。 赤式 只产生顺式烯烃 (Z构型) 苏式 只产生反式烯烃 (E构型) 原因:按E2历程进行,为反式消除。 赤式 苏式 卤代环己烷发生消除反应时,处于卤素原子反式位置上的β-氢优先消除。 特殊结构条件下,才发生顺式消除。 α-消除反应(1,1-消除) 碳烯(又称卡宾)是有机反应的活性中间体,它的主要反应有对双键的加成和对σ键的插入反应。 氢化铝锂遇水会分解,反应要在无水条件下进行。 硼氢化钠可以在水溶液中使用,也可用于还原卤代烷。 氢碘酸作还原剂也可将卤代烷还原为烷烃。 五、亲核取代反应机理 有些卤烷的水解速度仅与卤烷本身的浓度有关。 卤烷水解可按两种不同的方式进行:单分子亲核取代(SN1)和双分子亲核取代(SN2) 另一些卤烷的水解速度不仅与卤烷的浓度有关,还与试剂(例如碱)的浓度有关。 1. 单分子亲核取代(SN1) ?=k[(CH3)3C-Br] 叔丁基溴的碱性水解速度仅与卤烷的浓度成正比,与亲核试剂(OH-或水)的浓度无关。 反应由两个基元反应组成,总的反应速度由最慢的一步决定。 * 过渡态 过渡态 SN1的两步机理 第一步,叔丁基溴首先离解成叔丁基碳正离子和Br-(该碳正离子是个中间体,性质活泼,又称为活性中间体)。 第二步,生成的叔丁基碳正离子立即与试剂OH-或水作用生成水解产物 反应的能量曲线图: E 反应进程 E1 ΔH E2 反应的活性中间体为碳正离子 sp2杂化 2p空轨道 正电荷分散程度越大,碳正离子越稳定。 在决定反应速度的这一步骤中,发生共价键变化的只有一种分子,称为单分子反应历程,常用SN1来表示。 2. 双分子历程SN2 sp3杂化 sp2杂化 sp3杂化 溴甲烷的碱性水解速度不仅与卤烷的浓度成正比,也与碱的浓度成正比。 ?=k[CH3Br][OH-] 在接近碳原子过程中,C-O键逐渐部分形成,同时C-Br键因受OH-进攻的影响而逐渐伸长和变弱,使溴原子带着电子对逐渐离开碳原子,体系的能量逐渐升高。 随着反应的进行,OH-的负电荷不断减

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