离子布植的阻滞现象分成1.pptVIP

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  • 2018-04-21 发布于天津
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离子布植的阻滞现象分成1

電子阻滯力 晶片中的電子雲或自由電子作用在入射離子上的作用力, 屬於非彈性碰撞。 電子被撞擊後,被撞離開軌道,並以輻射出X-光來釋放被 撞擊的能量,減低本身的能量,稱為電子阻滯力。 由於電子很輕(約等於中子質量的1840分之一) ,所以撞擊 並不會改變離子的方向,而且離子損失的能量也很少。 入射離子會發生的機制為主,是由入射離子的能量與質量 來決定的;一般,高能量以電子阻滯為主,因為入射的離 子能量強,所以速度快,還來不及碰到原子核時,就已經 跑掉了。而低能量則是以原子核阻滯為主。 原子核阻滯力-1 q M1 E0 V0 M2 M2 M1 V1 V2 R:離子停止前所走的距離 Rp:投影射程 M1:離子的質量 M2:矽原子的質量 利用動能不滅與動量不滅定律,假設以正面碰撞來考慮: ·········傳給M2的能量 原子核阻滯力-2 右圖是砷、硼與磷在矽 晶圓中,對不同的入射 能量的原子核阻滯力能 量損失。 重原子核 (入射離子) 有 比較大的原子核阻滯力 。 原子核 電 子 0 200 400 600 800 1000 1500 1000 500 0 能量損失(eV/nm) 能量(eV) 700keV

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