SMLT2GTOLT3GT光学薄膜的制备、结构及性能研究.pdfVIP

Sm203光学薄膜的制备、结构及性能研究 摘要 氧化钐是一种具有4f电子结构的宽禁带金属氧化物，常温下禁带宽度 为4～6eV。氧化钐具有高的电阻率，高的介电常数，高的化学稳定性和热稳 定性等性能，具有广泛的应用前景。Sm203光学薄膜可用来制备光学开关、 数据存储和光电转换元件等。此外Sm203薄膜还具有多种用途，可用于电 子和磁性器件，可用于特种玻璃的滤光器中；纳米Sm203还可以用于制备 陶瓷电容器和催化剂等方面。目前Sm203薄膜制备主要采用真空蒸镀和气 氛蒸镀等方法。但这两种方法对设备的要求很高，设备仪器比较昂贵，对 Sm203原料的利用率较小。为了达到实用化的目的，必须开发生产成本低、 变换效率高的Sm203光学薄膜的制备方法。鉴于此，本研究采用氯化钐为 起始原料，探索性地在玻璃片和单晶硅基板表面采用溶胶一凝胶法和水热法 艺因素对薄膜结晶取向、显微结构和光学性能的影响。主要研究内容和成果 如下： 温时间和热处理温度对薄膜结构和光学性能的影响。发现在玻璃和Si(100) 膜的取向生长和结晶趋势增强；薄膜在全波段对光的吸收也增强，薄膜的禁 带宽度变窄。随着保温时间的延长，薄膜的取向性、结晶性和光学性能均变 处理时间为2h。此时薄膜表面形貌最好，定向生长也最完整。 在玻璃基片和硅基片上可以制备出氧化钐薄膜。当溶液中Sm3+浓度为 外观质量较高的薄膜。所制备的薄膜表现出一定的定向生长趋势，且薄膜对 紫外线有强烈吸收作用而对可见光有强烈增透作用。随着水热反应温度的升 高，薄膜的取向生长和结晶趋势增强；薄膜对紫外的吸收和对可见光的透过 均增强，禁带宽度增加。当热处理时间小于48h时，随着时间的延长，Sm203 薄膜取向度提高，生长更致密均匀。当热处理时间超过48h后，晶粒尺寸反 而下降；Sm203薄膜的禁带宽度也随着热处理时间的变化而变化，其变化趋 势与晶粒尺寸的变化正好相反。 关键词：氧化钐，光学薄膜，溶胶．凝胶法，水热法，光学性能 AND PRoPERTIESoF 0PTICAL Sm203 THINFILMS ABSTRACT Theelectronicstatesofthe havebecomea energy 4f(RE)compounds ectof interestbecauseoftheirdiverse and subj growing metal andthe isawide semiconductoroxide bandgap opticalproperties．5m203 is tobe4“eVatroom thinfilmisalsoa bandgapreported temperature．Sm203 new materialandhas in photovoltaic potentialapplicationsoptical deviceand device．In oxide recording magnetic addition，samarium canbeusedasa for ofalcoholsandasa nano—particles cataly