GB/T 34971-2017半导体制造用气体处理指南.pdf

ICS71.040.40 G86 中华人 民共和 国国家标准 / — GBT34971 2017 半导体制造用气体处理指南 Guideforaseouseffluenthandlin insemiconductorindustr g g y 2017-11-01发布 2018-02-01实施 中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局 发 布 中 国 国 家 标 准 化 管 理 委 员 会 / — GBT34971 2017 前 言 本标准按照 / — 给出的规则起草。 GBT1.1 2009 本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会( / )提出并归口。 SACTC203 : 、 、 本标准起草单位 中昊光明化工研究设计院有限公司 西南化工研究设计院有限公司 高麦仪器公 、 、 、 、 司 广东华特气体股份有限公司 东莞市联臣电子科技有限公司 上海华爱色谱分析技术有限公司 上海 市计量测试技术研究院。 : 、 、 、 、 、 、 、 。 本标准主要起草人 孙福楠 牛艳东 廖恒易 杜汉盛 王鸿 方华 陈鹰 周鹏云 Ⅰ / — GBT34971 2017 半导体制造用气体处理指南 1 范围 本标准规定了半导体制造用气体排放系统的原理及技术。 本标准适用于半导体制造用气体的处理。 2 术语和定义 下列术语和定义适用于本文件。 2.1 效率 efficienc y ( )。 去除的化学物类与其投放量的比率 分数或比例 2.2 管道末端减排 end-of-ieabatement pp 可在废气处理系统的排放点使用的减排技术。 2.3 使用点减排 oint-of-useabatement p 可在半导体工艺设备气体排放装置的排放点使用的减排技术。 2.4 去除能力 remova