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天线原理与设计 第十一章 单反射面天线 11.2 旋转抛物面天线的几何关系 11.3 旋转抛物面表面上的电流分布 11.4 旋转抛物面天线口径上的场分布 11.5 旋转抛物面天线的辐射场 11.6 空间衰减因子 * 抛物面天线的简单设计过程 11.8 旋转抛物面天线的馈源 11.9抛物面与馈源的相互影响和克服方法 一、馈源和支撑杆对口径面的遮挡 由于馈源、馈线和支撑杆在电磁波辐射的路径上形成遮挡，其影响相当于口径面减小，见P275图11-36、P276图11-37和图11-38。口径面的减小，使天线方向图的主瓣变宽，副瓣升高，增益降低。 ●减小馈源的遮挡：比如馈源为喇叭，喇叭口径小则其照射波瓣就宽，f/D就应小，但f/D太小照射均匀程度受影响。 f/D大照射虽然均匀些，但喇叭照射波瓣要求尖锐些，喇叭口径就要大，遮挡就大，因此喇叭口径的选择要兼顾f/D的选择。 ●减小支撑杆的遮挡。合理选择支撑杆可使遮挡造成的增益损失小到0.16dB。见 P278。 二、抛物面反射波对馈源的影响 三、遮挡影响近似计算 遮挡影响可采用几何光学法近似分析。其思路为: (1) 确定遮挡体在口径上的几何阴影区，阴影区面积为遮挡面积； (2) 假设被遮挡的能量全部由遮挡体吸收，无反射，不影响照明区内的场分布，阴影区内的场为零。 这样，天线的辐射场可认为是没有遮挡时的辐射与被馈源所遮挡部分的辐射之差。 馈源接收由反射面反射回来的反射波，将产生一个附加反射系数R1，使馈线中的反射系数模变为 (11.74) 为了简化分析，设馈源为圆形口径，则其模型如下图所示，分析时需要知道未遮挡时的口径场分布和遮挡后阴影区的口径场分布。 设未遮挡的原口径场分布为 (11.75) 由于dD，故遮挡的场看作是均匀分布的，即 (11.76) 比较E面和H面方向图，可见H面方向图主瓣窄些，这是因为口径面上H面的场(或电流密度)分布比E面的要均匀些。 对不同的R0/f 值，方向图也有所不同。这是由于口径场幅度分布随R0/f 的不同所致。小口径(焦距f大)的场分布要均匀些，主瓣也窄些，但副瓣大些。 P264表11.1列出了不同R0/f 值时的主瓣宽度和副瓣电平。当R0/f =1.3时, 其增益最大，此时对应的主瓣宽度为 (11.39) 一、空间衰减 空间衰减是指球面波在传播过程中随距离的增加而引起的衰减。在前面导出的抛物面天线的口径场分布为 式中， 。 此式说明: 抛物面天线的的口径场分布，不仅与馈源的方向图函数有关, 而且还与由焦点到反射面上某点的距离r有关。 由抛物面天线工作原理可知，由焦点处馈源发出的波为球面波, 到达反射面的场与距离成反比(即空间衰减),到达反射面的场经反射后变换为平面波，经过距离z0-z到达口径面。由于假设为平面波，所以这段距离的传播只考虑相位变化，不考虑空间衰减。如下图所示。 抛物面天线的空间衰减因子就集中体现在由焦点发出的球面波入射到反射面这段空间。由 且r+z0-z=C，则口径电场分布可写作 (11.40a) 返回 式中，单位矢量 由P260式(11.26)表示。 空间衰减定义为：均匀辐射的馈源在抛物面的边缘与中央的功率密度之比。 按此定义取Ff(ψ,ξ)=1，此时式(11.40a)可写作 (11.40b) 在抛物面的中心处(ψ=0)， (11.41) 由功率密度公式 ，可得空间衰减为 链接 (11.42) 二、口径场分布的近似 由馈源方向图函数Ff(ψ,ξ)来计算旋转抛物面天线的口径场分布Es较复杂，从而使得计算远场也复杂。大多情况下可用典型分布来逼近Es 。例如, x方向的短电偶极子,其方向图函数为 当抛物面的焦径比为f/D=0.35时, 由f/D=ctg(ψ0/2)/4，可得ψ0=71.2o，此时可求得口径面上的分布图|Es|。见P267图11-19虚线。 由半空间余弦方向图函数得到的口径场为 对长焦情况 。把它代入式(11.34)计算远场是较复杂的。可取典型口径分布 链接 来逼近。式中K为口径边缘的场强, 由ψ0确定.当ψ0=71.2o和K=0.215，且取P=1.5和P=2时可得两者的口径场分布如P267图11-19所示. 图中说明两者的口径场分布十分