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微电子化学 一、填空题： 1. 单质硅有___ ___和___ ___硅两种，晶体硅的结构类似于金刚石，化学性质___ ___ ， 是重要的_ _____材料。 2. 通常条件下，硅单晶只与 和 的混酸反应，在加热情况下可与 酸发生反应；在有氧化剂存在时硅单晶也与HF 反应。 3. 单质硅有 和 两种同位素， 很不活泼，在正常条件下 就能和氟作用。 4. 硅氢化物组成和结构式和烷烃类似，其物理性质和烷烃 ，对一般的化学性质两 者 ，硅烷是较 物质。 5. 洁净室内最大的污染源是 。 6. 影响过滤效率的主要因素有 。 7. 和洁净室有关的大气菌主要是 和 。 8. 评价任何过滤器，最重要的特性指标是 。 9. 新型兆声清洗技术过程中表面活性剂的作用是 。 10. 超纯水有待提高的水质项目有 。 11. 反渗透膜的污染类型有 。 12. 要使硅片能够充分键合，硅片键合前通常都要经过 ，使硅片表面产生一个易 于吸附 的结构。 13. 低温直接键合技术与常规直接键合技术不同在于在贴合前增加了 ，使得 退火温度较低，退火时间延长。 14. 各向异性腐蚀中，有机腐蚀剂和无机腐蚀剂具有非常类似的腐蚀现象，因此可以得出 在 此反应中起着重要作用的结论。 + 15. 在阳极硅被氧化给出电子；在阴极Na 得到电子将被还原，界面处发生 键向牢 固的 键的转化。 二、判断题 1．强碱能和硅反应，弱碱不能和硅反应。（ ） 2 ．硅烷在纯水中不水解，如有微量的碱存在，尤其是强碱，由于碱的催化作用，水解反应速度迅 速增加。（ ） 3 ．硅片清洗的一般顺序为去离子→去原子→去分子→去离子水冲洗。（ ） 4 ．洁净室技术中大气尘就是指大气中的固态粒子，即真正的灰尘。 （ ） 5 ．细菌不能单独存在，它一般附着在尘粒表面，形成有生命的微粒。（ ） 6 ．洁净室内最大的污染源是人。（ ） 7 ．分子筛能根据分子大小和构型进行选择性的吸附气体和液体杂质。（ ） 8．利用离子交换树脂净化水时阴离子交换柱必须在阳离子交换柱之后。（ ） 9 ．在高纯水制备中要降低水中总有机碳利用254nm 和185nm 紫外线照射效果相同。（ ） 10．电渗析制备纯水过程中阳膜带负电只允许通过阳离子，阴膜带正电只允许通过阴离子。（ ） 11．MEMS 尺寸在毫米到微米范围之内，许多物理现象和宏观世界相应有很大差别，但宏观世 界基本的物理规律仍起作用。（ ） 12．用KOH 腐蚀液腐蚀单晶硅晶体其在三个常用晶面方向上的腐蚀速率情况是（111） （110） （100）。（ ） 13．利用腐蚀液EPW 腐蚀过程中乙二胺和水使硅氧化，邻苯二酚起络合剂作用，水在反应前后 质量增加。（ ） 14．一般要求气体中颗粒容许粒径大小为电路设计最小线宽的1/10 以下。（ ） 15．对于P 型硅（P ＋或P －），由于硅片