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微电子学概论第三章 庄庆德 2003.8 第三章 VLSI基础 3.1 IC (Integrated Circuit)概述 3.2 双极型集成电路基础 3.3 MOS集成电路基础 第三章 VLSI基础 3.1 IC (Integrated Circuit)概述 IC历史 3.2 双极集成基础3.2.1双极型集成电路中的晶体管 Al 平面图 双极型晶体管特性 双极型晶体管特性 金属栅，n沟道 MOS晶体管 MOS晶体管特性 MOS晶体管特性 基本MOS电路 2.5.2 MIS | 2.5.2 MIS 2.5.2 MIS | 2.5.2 MIS 2.5.2 MIS | 2.5.2 MIS 2.5.2 MIS | 2.5.2 MIS 2.5.2 MIS | 2.5.2 MIS 2.5.2 MIS | 2.5.2 MIS CMOS集成电路构成 * * 集成度，特征尺寸，芯片(Chip)，圆片(wafer) 功耗，延迟时间，可靠性 定义:在半导体或其他基板上制作含有多个器件的电路系统。 结构，成品率 1947 晶体管发明 1952 IC设想 1958 IC诞生 1962 DTL,TTL,MOS 1968 MOS存储器 1971 微处理器 1978 64kRAM 10万Tr VLSI 1985 1