福建国家重点监控企业自行监测方案-联芯集成.PDF

福建国家重点监控企业自行监测方案-联芯集成.PDF

  1. 1、原创力文档(book118)网站文档一经付费(服务费),不意味着购买了该文档的版权,仅供个人/单位学习、研究之用,不得用于商业用途,未经授权,严禁复制、发行、汇编、翻译或者网络传播等,侵权必究。。
  2. 2、本站所有内容均由合作方或网友上传,本站不对文档的完整性、权威性及其观点立场正确性做任何保证或承诺!文档内容仅供研究参考,付费前请自行鉴别。如您付费,意味着您自己接受本站规则且自行承担风险,本站不退款、不进行额外附加服务;查看《如何避免下载的几个坑》。如果您已付费下载过本站文档,您可以点击 这里二次下载
  3. 3、如文档侵犯商业秘密、侵犯著作权、侵犯人身权等,请点击“版权申诉”(推荐),也可以打举报电话:400-050-0827(电话支持时间:9:00-18:30)。
查看更多
福建国家重点监控企业自行监测方案-联芯集成

版本号:0507101440 福建省国家重点监控企业 自行监测方案 企业名称: 联芯集成电路制造(厦门)有限公司 所在设区市: 厦门市翔安区 2018-05-10 — 1 — 版本号:0507101440 一、企业概况 我司基本信息如下所示: 表 1 企业基本信息 企业名称 联芯集成电路制造(厦门)有限公司 地址 厦门市翔安区万家春路 899 号 法人代表 尤朝生 环保负责人 王艳娟 手机 企业规模 中一型 投产时间 2016-06-12 [3963]集成电 所属行业 生产周期 365 路制造 占地面积(万 25.5 职工人数(人) 1036 m2) 生产工艺及产、排污情况 芯片生产可简要概括为三大步骤: 步骤一:在晶片上形成薄膜,薄膜可以是多晶硅、氧化硅、氮化硅、金属(铜、 钽、钨、铝等)等,成膜工艺包括:热氧化、物理气相沉积、化学气相沉积; 步骤二:将光掩膜版上的图形转移到第一步形成的膜上,在薄膜上形成需要的 器件图形或线路沟槽,工艺主要利用照相原理的光刻和刻蚀技术; 步骤三:在上述基础上进行器件加工和线路连接,工艺包括:扩散、离子注入、 金属化等。 产、排污情况见右图。 — 2 — 版本号:0507101440 生产工艺图 污染处理设施建设、运行情况 公司废水、废气、噪声均建设有配套的污染防治设施,建设情况符合 “三同时” 要求,且已通过阶段性(第一阶段)验收,运行正常。 1.生产废水主要为:含磷废水、含氨废水、含氟废水、含铜废水、综合废水等。 配套建设废水处理设施主要包括:含磷废水处理系统、含氨废水处理系统、含 氟废水处理系统、含铜废水处理系统、中和处理系统。处理达标后与生活污水通 过总排口排入翔安污水处理厂。 2.废气处理设施主要包括:酸性废气处理系统、碱性废气处理系统、酸碱性废 气处理系统、酸腐蚀性废气处理系统、有机废气处理系统、废水站一般废气处理 系统、废水站氨氮系统废气等 20 套设施,即 20 根废气排气筒。但其中包含备用 设施 4 套,只在同型设施异常时开启,故正常状态下运行设施计 16 套。 另外公司有备用天然气锅炉一台,平常不开启,仅在热泵能力不足时才开;且 其功率 4.1KW,根据监测指南要求,不属于主要污染源,公司环评文件中亦未对其 监测频次进行要求,故本方案中不含锅炉。 — 3 —

文档评论(0)

fengruiling + 关注
实名认证
内容提供者

该用户很懒,什么也没介绍

1亿VIP精品文档

相关文档