材料学中常用的分析方法第八讲.ppt

材料学中常用的分析方法Instrumental Analysis in Materials Science 第八讲 FIB（Focused ion beam） （聚焦离子束技术） 液态金属离子源（LMIS） Dual column  FIB Ion beam assisted deposition  etching in FIB FIB applications: FIB象衬度的形成机制 接收FIB感生的电子、离子，可形成如下的衬度：* 拓扑衬度 当离子束入射到不规则的样品表面时，二次离子、电子的产额依赖于不同部位处离子束的入射角。不同部位处入射角不同，二次电子、离子的产额也不同。低能的二次电子的逃逸距离1-50nm，而二次离子的逃逸距离1nm。因此，二次离子只携带样品浅层表面的信息。这时, 二次电子、离子形成的衬度是拓扑衬度* 成分衬度与SIMS时相似，二次离子的产额取决于表面成分和表面污染层的情况。表面氧化物层的存在，基体成分的相互影响效应，离子束引发的表面化学变化等因素均影响二次离子的产额。这使得二次离子象产生独特的成分衬度。 FIB象衬度的形成与分类* 通道效应衬度 二次电子、离子的产额还依赖于晶体相对于入射束的取向。当入射束方向与