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LCD清洗技术简介 LCD的结构 ITO玻璃制造流程和玻璃清洗剂 彩色滤光片的制造过程 LCD基板玻璃表面的污染物 基板预清洗 LCD基板清洗 强碱清洗的特点 P3 siliron系列玻璃清洗剂的特点 助洗剂 / 表面活性剂的协同作用 水洗水 LCD基板玻璃清洗条件 LCD基板玻璃清洗条件 颗粒残留 泄漏液晶清洗 LCD 清洗条件 LCD 清洗工艺 LCD清洗剂的要求 LCD清洗效果判定 清洗效果的比较 液晶清洗效果（已洗净） 液晶清洗效果（未洗净） * 汉高股份有限公司 电子产品的发展方向 TFT-LCD 透明电极 玻璃基板 导向膜 液 晶 光源 集成电路 反射片 反射片 Color Filter Black Matrix Array Board CeO 研磨 研磨后 清洗 涂膜前 清洗 母板 ITO 涂膜 切割后 清洗 切割 P3 siliron AP P3 siliron HS P3 siliron L P3 siliron E P3 siliron TK P3 siliron TKA P3 siliron S P3 siliron SA 最新产品：P3 siliron AP 去除研磨剂 P3 siliron SA 去除颗粒，纸屑，玻璃屑，油污 玻璃基板 黑色矩阵 彩色层 保护层 ITO导电膜 光阻 涂布 BM 基板清洗 ITO 制程 去除边缘 显影 后段 烘烤 前段 预烤 紫外线 曝光 重复三次(R,G,B) P3 poleve HP P3 disperse H 印框胶 贴偏振片 检测 下一道工序 去除残留液晶 注射液晶 清洗 面板组合 Array board 基板玻璃 清洗 去除研磨和切割残留物 清洗 金属铬 BM制程 刻蚀 Array board 光刻制程 Color Filter 曝光 去除边缘 曝光 检测 检测 Color Filter 基板玻璃 去除边缘，显影 去除光阻 显影 光阻 BM制程 去除光阻 TFT-LCD 制造流程 超音波清洗 喷淋加毛刷清洗 配合溢流与过滤 灰尘、玻璃屑或研磨剂等微粒子(particle) 无机污染物 玻璃清洗剂清洗 碱液清洗 UV光照射(O3)清洗 包装纸中的有机物、指印、油脂等 有机污染物 清洗方法 污染物来源 污染物分类 一.目的： 对PI 投入前之基板做清洗工作，确保基板之清洁状态。 二.原理： 利用洗剂、毛刷、超音波、IR、UV等装置，将基板上的微粒及油污清除。 P3 siliron HS(2 槽) 1- 5%, 45 -60 ℃, 5-10 min. 浸渍＋超声波 P3 siliron LS(2 槽) 1- 3%, 45 -60 ℃, 5-10 min. 喷淋＋刷洗 去离子水 (4-5 槽) RT - 60 ℃ , 5-10 min. 浸渍＋超声波 去离子水 (4-5 槽) RT - 60 ℃ , 5-10 min. 喷淋＋刷洗 清 洗 漂 洗 PI 前 强碱与玻璃有一定的亲合力，容易在玻璃表面形成碱性覆盖膜，不易被漂洗除去。为解决碱液吸附残留表面问题，需采取增加冲洗次数的方法改善，一般清洗设备会设计更多的清洗和漂洗槽，但这也增加了设备费用成本。 表面活性剂和助洗剂的协同作用，显示出卓越的清洗性能 采用了漂洗助剂，残留物极易漂洗干净。 助洗剂浓度: 2.0 % 表面活性剂浓度: 0.1 % 清洗温度: 60 °C 处理时间 (min) 清洗能力 (%) 水 表面活性剂 助洗剂 助洗剂 + 表面活性剂 100 0 1 3 0 20 40 60 80 5 10 Lit. from: Oberfl?che-Surface 1984, Rossmann: Reinigung starrer Oberfl?chen 1 2 3 脱脂 水洗 举例: m = 10 ml/m2 表面 Co = 25 g/l Cx = 0.01 g/l 稀释比例=1:2500 消耗量: 1 个水洗槽 25.00 l/m2 表面 2 个水洗槽 0.50 l/m2 表面 3 个水洗槽 0.14 l/m2 表面 水洗水计算方程式 (简化式) L = n Co Cx L = 水洗水的消耗 (l/m2表面) m = 带出量 (l/m2表面) n = 水洗区的水洗槽数量 Co = 最后脱脂槽的浓度 (g/l) Cx = 最后水洗槽的浓度 (g/l) m 控制项目 清洗剂浓度测定: 每天进行一次 电导率法 酸碱滴定 － 总碱 定期添加 约5g/m2 测试方法 水膜浸润度 扫描式电子显微镜(SEM) X光能量分散光谱仪(E