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- 2018-10-21 发布于河北
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第8讲-干法刻蚀
微/纳制造工艺技术
Microfabrication technology
第八讲:干法刻蚀
乔大勇
课程内容
一 干法刻蚀
一 光刻
等离子基础
反应离子刻蚀
深度反应离子刻蚀
干法刻蚀
为什么要进行干法刻蚀
腐蚀参数 湿法腐蚀 干法刻蚀
腐蚀偏差 3微米 非常小
腐蚀图形 同性或异性 可控
刻蚀速率 高,可控
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