新式热压制程增进电浆子双触媒半导体金属氧化物於光能转换之研究.PDF

新式熱壓製程增進電漿子雙觸媒半導體金屬氧化物於光能轉換之研究 （科技部計畫編號：MOST 106-2221-E-035 -033 -MY3 ） 1 2 3 *鄧詠任 楊昆霖 洪緯璿 1 逢甲大學 材料工程學系 研究生 2 逢甲大學 材料工程學系 研究助理 3 逢甲大學 材料工程學系 副教授 摘 要 銳鈦礦相之二氧化鈦(TiO2)為一常被運用於光能轉換之基本材料[1] ，因其具有低成本、無毒性、製備簡 單、化學穩定性高之優點，但由於其能隙過高(3.2eV) ，使其無法吸收全波段範圍之太陽光，進而影響了光催 化無法有效實行光能轉換，為此吾人將第二相金屬氧化物 Fe O [2]摻雜作為光催化分解水之光電極薄膜以增 2 3 加其光子吸收範圍，進而改善光催化分解水之效率，後以二氧化錫摻氟(SnO :F)導電玻璃(FTO)做為基板[3] ， 2 因其具有良好的透光性以及熱穩定性，再加上一簡易快速熱壓製程去增進雙觸媒半導體金屬氧化物光電極 的。經由此熱壓製程，將能有效降低材料之薄膜厚度，而使整體薄膜之緻密度增加，薄膜內部電子的傳輸能 力也隨之提升。此外，隨著熱壓過程使薄膜密度提升，其整體剛性也隨之增加，將有助於抵抗電解液之腐蝕， 提升整體材料薄膜於光催化分解水之穩定性。最後，吾人會將上述光電極經由濺鍍法披覆金奈米粒子[4] ，並 利用電化學分析系統證實表面電漿子共振效應使其分解水之光電流將再進一步得到提升。 關鍵詞：二氧化鈦 、三氧化二鐵 、熱壓 、鍍金、光催化分解水 一、前言 機制。藉由熱壓使得薄膜膜厚降低，可以提升薄膜 隨著工業化的快速發展，人類大量的使用煤 整體的緻密度，進而提升薄膜之剛性，有效降低 TiO -Fe O 光電極內光生電子電洞對再結合機率 ， [5] 、石油[6] 、天然氣[7]等化石燃料，排放出大量 2 2 3 的二氧化碳氣體，導致溫室效應日益遽增，許多學 使薄膜內之電子電洞傳輸效率提升，另外薄膜之剛 者已經積極地開始尋找替代能源，太陽能[8, 9]不僅 性將會提升光電極之抗腐蝕性，同時能提升整體光 可以於任何地區使用，利用太陽能來分解水產氫對 催化分解水之穩定性。 環境無汙染並且可再利用，為綠色替代能源之研究 除此之外，吾人將利用金屬奈米粒子引入上述 大方向。 之光催化分解水系統，再次提升其光催化分解水效 銳鈦礦相之二氧化鈦(TiO )為一常被運用於光 率。電漿子金屬奈米粒子均有其共振頻率，當與入 2 能轉換之基本材料[10] ，因其具有低成本、無毒性、 射之光子頻率匹配時將被吸收進而引發電荷耦合 製備簡單、化學穩定性高之優點，但由於其能隙過 震盪在表面形成強電場抑制電子電洞再結合機 高(3.2eV) ，使其無法吸收全波段範圍之太陽光，無 率，而透過改變粒子尺寸、表面形貌可以合成所需 法有效利用整個太陽光譜(全波段光譜利用率之 3 之電漿子金屬奈米粒子，以控制吸收特定波長之光 % ~ 5 %) 。另外高能隙也影響了光生電子電洞對的 子，並將其披覆在光催化系統加以改質以增進太陽 再結合機率過高，進而影響了光催化無法有效使光