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CDS (中央供酸系統) Center Chemical Dispense System Prepared by： Date： CDS ：系统目的 2 供应高纯度化学品以清洗芯片上之杂质、微粒子 供应高纯度化学品以蚀刻芯片图案 供应高纯度化学品以显影芯片图案 供应高纯度化学品以为化学气相沉积前置反应物 供应高纯度化学品以研磨芯片 供应高纯度化学品以清洗制程设备零配件 3 客戶需求: N2 Chemical Chemical 温度、压力、流量、方向、位置… 温度、時间、浓度… 化学品之种类与用途(一) 4 酸性: 腐蚀性:H2SO4,HCl,HNO3,HF,H3OP4... 毒性:HF,HNO3,Poly-Mix,BOE... 碱性:NH4OH,KOH,Developer... 有机溶剂 易燃液体:IPA,Acetone,NBA,光阻液... 腐蚀性有机溶剂:EKC,EBR,HMDS... 氧化性:HNO3,H2O2... 化学品之种类与用途(二) 5 系统基本要求 6 操作安全：腐蚀性、毒性、耐压、防爆之考虑 化学品零污染：与化学品接触部份完全与化学品兼容 微粒子控制：过滤器循环过滤 满足最大需求流量：高浓度化学品如H2SO4、 H3PO4 自动控制操作运转：系统单元与机台界面自动化 取样分析：系统、管路之粒子数、金属离子取样分析 泄漏警报：侦测泄漏及紧急