《铝硅烷涂层的湿沉积和等离子体沉积的比较》-毕业论文.docVIP

铝硅烷涂层的湿沉积和等离子体沉积的比较 关键词：等离子体沉积，硅烷，BTSE，X射线光电子能谱，IRRAS 摘要：硅烷涂料适用于金属表面的各种用途，例如形成一个防腐保护层或者充当后续涂层的底漆。在这项工作中二—1，2—（三乙氧基）乙烷（BTSE）作为先驱在99.99%的铝基底上用于沉积涂层，伴随三种不同的技术：浸涂（水基溶液），真空等离子体和大气等离子体。反射吸收红外光谱（IRRAS），X射线光电子能谱（XPS）和场发射枪扫描电子显微镜（FE— SEM），用来表征硅烷涂层的结构，组成和表面形貌。本次调查研究的目的是比较通过三种不同方法制备的膜的表面和体的特点，以获取BTSE分子是怎样被沉积技术修改的信息。结果表明除了更传统的湿浸涂，膜还可以被真空和大气等离子沉积。真空等离子沉积层可以被视为有机和无机的混合物，和硅烷层一样可以通过浸涂获得。然而，大气等离子体处理导致更多含Si—O更丰富的无机膜的形成。光电子能谱和红外光谱测量表明了Si—O—Si键的存在，而IRRAS测量显示了Si—O—Si，Si—O—C，Si—O和Si—CH3吸收带。 1 引言 在各种应用中，金属表面覆盖有机膜以提高其整体性能，特别是它的腐蚀性能。目前已有多种硅烷通过浸涂沉积为铝和合金钢而被研究[1,2]。硅烷提供了强有力的基材附着力，在铝合金中展现出杰出的腐蚀防护性能。在某些情况下相当于包含转换预处理的六价铬[3]。研究发现，非功能性硅烷例如二—1，2—（三乙氧基）乙烷（BTSE）比有机功能性硅烷例如γ—氨丙基三乙氧基硅烷(γ—APS) [4]和γ-缩水甘油醚氧丙基三甲氧基硅烷(γ—GPS) [5]表现出更好的腐蚀防护性能。硅烷膜沉积的涂层工艺可以或干或湿，这取决于使用方法[6–8]。截至目前，这些硅烷膜大多数通过浸涂或者粘辊从溶液中沉积，这需要加水到硅烷分子以水解甲氧基或乙氧基团和形成功能甲烷组，即： (1) 其中X代表一个有机功能性组，如氯，胺，环氧树脂或巯基等。相互作用的表面含金属的硅烷中一个重要的方面是基质的性质和预处理。在金属表面形成羟基团需要一个碱性预处理，和硅烷醇组分一起，它们对共价Si—O—金属键在金属/膜界面的形成是必不可少的[9,10]。此外，对硅烷膜的热处理会提高防护性能[10]，通过加强交联（硅烷醇组分的冷凝）即： (2) 这种交联膜接下来将通过减少可能发生的渗透路径数作为一个在金属基质和侵略性环境之间的物理屏障。因此，膜的防护性能和基材的防腐性能得到改善。 为了提高BTSE涂层防腐性添加剂被包含在硅烷基质，既为屏障又为腐蚀抑制增强[11-15]。Phanasgaonkar和Raja [16]和Montemor等的最近一项研究[17]证明了添加二氧化硅纳米粒子到硅烷膜将增加涂层的防蚀性。纳米粒子加强了无裂缝膜的形成同时提高了机械耐用性和防腐性能[18]。它们似乎也有堵孔效应[19-21]，因为它们可以在硅烷膜中填补缺陷和空洞。这导致孔隙率和电导率显著下降，同样提高了防护性能。通过湿法沉积硅烷正在被广泛研究，但是该技术表现出一些缺点。首先，湿沉降是一个多级的处理，需要专门的基质在沉积膜前预处理，以提高金属膜粘接合和一个通过热固化的后处理以提高防护性能。此外，湿处理涉及溶液（如果不是以水为基则含有有机溶剂，也就是正己烷，丙酮和乙醇）的使用和废液的制造。除了水解涂料溶液所需的长时间（大约两天）[22]，还有可能一些水或者溶剂固化后仍然残留在硅烷膜，这样会减少防蚀性能。 等离子体技术是湿沉降有效且良好的替代品，它允许在聚合物按相同反应沉积之前进行等离子体清洗步骤。等离子体被用于化学分解先驱硅烷蒸汽，并作为涉及到膜成长的活性种类的来源。等离子体聚合过程通常在低气压下进行，目前，该过程在工业应用中的主要缺点是真空系统和由真空封闭反应的局限性（这使得连续制备样品更困难）带来的高成本。为了开发替换技术以克服这些缺点，研究人员付出了相当大的努力。大气等离子体是一种最有前途的方法以更灵活，可靠，低廉，连续的方式[23]沉降聚合物膜。 一些硅烷膜的等离子体沉积已经被研究过[8]。这些研究大部分进行特性描述，结构和沉积聚合物膜的性能[24–28]，并伴随等离子体聚合机制的有机硅化合物[29,30]。这些膜作为腐蚀防护涂层，是由于它们通常分支，高交联，不溶性，无针孔，对于大多数基质高粘连[31,32]。硅烷层充当界面改性剂以提高粘附性和耐蚀性。 最近的研究处理在99.99%铝上硅烷(BTSE)膜表面和化学描述，获得不同沉积方法：浸涂（以水为基），真空和大气等离子体。BTSE的等离子体聚合在之前的研究中从未被报道过，也没有关于不同沉积方法的比较的可利用的报道。这是观察初始结果相同的涂层和不同特性是怎样