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第八节 现代光学系统 激光光学系统 傅里叶变换光学系统 扫描光学系统 光电光学系统 一、激光光学系统 1、激光的物理基础----受激辐射 受激吸收 ：当外来光子的能量大于或等于原子的两个能级差时，就会把原子从低能态激发到高能态。 自发辐射（荧光）：处于高能态的原子在没有受到外来光子作用而自发地返回低能级，并同时发出光辐射的过程。 受激辐射 ：在能量相应于两个能级差的外来光子作用下，会诱导处于高能态的原子向低能态跃迁，并同时发射出数量加倍的光子，即光被放大了。这正是产生激光的基本过成。受激发射的光子与入射光子频率、相位相同，偏振方向和传播方向也相同。因此由受激发射跃迁所产生的光子具有很好的相干性和方向性。 3、激光器的三大要素 工作物质 工作物质是指能够产生受激辐射的材料，可以是气体、液体、固体或半导体 。关键是能在这种介质中实现粒子数反转，以获得产生激光的必要条件。 最基本的要求是：光学性质均匀、光学透明性良好且性能稳定、量子效率较高、具有亚稳态能级等。 泵浦源：激励源，是指向工作物质供给能量的能源，依靠它把工作物质中的原子、分子从基态激发到高能态，并形成粒子数反转。这种激励方式被形象化地称为泵浦或抽运 。 常用的泵浦方式有： 电子注入：二极管激光器（LD)； 光学泵浦：固体激光器、光纤激光器、染料激光器等； 气体放电泵浦：离子激光器、原